鉄田 博 | 沖電気工業株式会社生産センタ
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概要
関連著者
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鉄田 博
沖電気工業株式会社生産センタ
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〓田 博
沖電気工業株式会社 生産センタ
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おの田 博
沖電気工業
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橋本 圭市
沖電気工業(株) 超lsi研究開発センター
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橋本 圭市
沖電気工業
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井田 次郎
沖電気工業株式会社
-
井田 次郎
沖電気工業 超lsi研究開発センター
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大友 篤
沖電気工業 超lsi研究開発センター
-
影山 麻樹子
沖電気工業
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吉丸 正樹
沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ
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戸内 謙信
沖電気工業(株)
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森川 剛一
沖電気工業 超LSI研究開発センター
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戸内 謙信
沖電気工業(株)超lsi研究開発センター
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吉丸 正樹
沖電気工業(株)シリコンソリューションカンパニー研究本部
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伊野 昌義
沖電気工業超LSI研究開発センタ
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北 明夫
沖電気工業
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下川 公明
沖電気研究本部デバイス研究開発部
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伊野 昌義
沖電気工業
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成田 匡
沖電気工業(株)超lsi研究開発センター
-
原田 裕介
沖電気工業
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時藤 俊一
沖電気工業超LSI研究開発センタ
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阿部 一英
沖電気工業(株)
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宇佐見 隆志
沖電気工業
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下川 公明
沖電気工業
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山口 俊夫
沖電気工業超LSI研究開発センタ
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梶田 陽子
沖電気工業(株)超LSI研究開発センター
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阿部 一英
沖電気工業株式会社生産センタ
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時藤 俊一
沖電気工業株式会社生産センタ
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宇佐見 隆志
沖電気工業超lsi研究開発センタ
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成田 匡
沖電気工業(株)
著作論文
- Si/CaF2/Si積層SOI構造へのCMOSデバイスの形成
- Ti密着層を用いたAl-Si-Cu埋め込みヴィアのエレクトロマイグレーション
- Al合金/Ti構造における下地絶縁膜表面粗さのAl配向性への影響
- 低誘電率SiOF膜の0.35μmCMOSへの適用
- アルミ積層配線のエレクトロマイグレーション : TiNを上層に有する積層配線の信頼性
- Al高温スパッタ法により形成される生成物と配線信頼性への影響
- Cu/Ti/TiN/Ti構造を有するダマシン配線のエレクトロマイグレーション耐性
- a-Si/Ti ローカル配線での相互拡散, 寄生容量低減の解析
- a-Si/Ti ローカル配線での相互拡散, 寄生容量低減の解析
- EM加速試験におけるAl配線抵抗増加特性
- 多層配線における埋め込みヴィアホール形成技術