EM加速試験におけるAl配線抵抗増加特性

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概要

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EM加速試験において生じる, Al積層配線の抵抗増加特性について評価を行なった.低加速条件下では, 抵抗増加はdR/R_0∝t^mに従う特性を示すが, 高電流密度下では, 試験途中からdR/R_0∝t^mからの逸脱を生じるようになり, また, 高温下の試験では, 試験温度の上昇に伴い, 指数mが減少していく現象が生じた. また, dR/R_0∝t^mに従う抵抗増加特性を説明するため, 配線中に形成される粒界ネットワーク構造によるボイド成長モデルを提案した.
社団法人電子情報通信学会の論文
1996-01-26

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