低誘電率層間膜のサブハ-フミクロンCMOSへの応用 (VLSI<特集>) -- (プロセス技術)

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概要

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• 沖電気工業沖時報編集委員会の論文

著者

• 井田 次郎

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

• 大友 篤

  沖電気工業 超lsi研究開発センター

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