井上 信彦 | 沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

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著作論文

• 金属電極上に堆積したTa2O5の膜特性
• HFヴェーパクリーニングを前処理として用いた極薄シリコン窒化膜の形成
• メガビットDRAM用高品質極薄シリコン窒化膜の形成技術 (VLSI特集)

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