メガビットDRAM用高品質極薄シリコン窒化膜の形成技術 (VLSI特集)

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概要

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• 沖電気工業沖時報編集委員会の論文

著者

• 井上 信彦

  沖電気工業(株)超LSI研究開発センタ

• 吉丸 正樹

  半導体理工学センター(starc)

• 田村 浩之

  沖電気工業株式会社超lsi研究開発センター

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