招待講演 InP-HEMT MMICを用いたミリ波インパルス無線の検討 (電子デバイス)

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 電子情報通信学会の論文
• 2010-12-16

著者

• 牧山 剛三

  (株)富士通研究所

• 原 直紀

  富士通研究所

• 中舎 安宏

  富士通株式会社

関連論文

• 効率50%超C帯340W、X帯100W級GaN高出力増幅器
• 2009年IEEE MTT-S国際マイクロ波シンポジウム出席報告
• 94GHz帯パッシブイメージセンサ用InP-HEMT MMICの開発(マイクロ波/一般)
• C帯超300W、50%GaN高出力・高効率増幅器(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
• 高信頼GaN-HEMT開発のための劣化モード解析(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• W帯GaN MMIC送受信増幅器
• ノーマリーオフ型高電流密度GaN-HEMT
• GaN-HEMTエピ構造最適化によるオフ電流低減(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
• ミリ波向け高耐圧・高出力GaN-HEMT(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
• 100W出力AlGaN/GaN EモードHEMT増幅器(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• 高耐圧 E-mode AlGaN/GaN HEMT 実現のための新規リセス構造
• CS-9-3 GaN高周波応用技術の現状と展望(CS-9. ワイドギャップ半導体電子デバイスの現状と今後の展開,シンポジウムセッション)
• CT-1-4 化合物半導体デバイス : InP系,GaN系(CT-1.CMOSを越える革新デバイスの現状と展望,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
• 絶縁ゲートGaN-HEMTの電流コラプス
• SC-7-3 超高速光通信用HEMT-ICの開発
• 超広帯域40-Gb/s光通信用LiNbO_3変調器駆動回路
• InP系HEMTの均一性と40Gbit/s光通信用ICへの適用
• W帯10Gb/sインパルス無線通信用ウェーブレット送信機の開発(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
• 94GHz帯パッシブイメージセンサ用InP-HEMT MMICの開発(マイクロ波/一般)
• 75nm InP HEMTによる20Gb/s 4.9ps短パルス発生器の開発(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
• 75nm InP HEMTによる20Gb/s 4.9ps短パルス発生器の開発(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般)
• SC-5-2 InGaPチャネルFETにおける高耐圧化の機構
• 31a-P11-26 高耐圧InGaPチャネルFET
• CI-1-9 GaN HEMTのミリ波応用技術(依頼シンポジウム,CI-1.高速ミリ波無線通信用デバイス・IC技術の現状と展望,ソサイエティ企画)
• B-5-126 超高速ギガビット無線LANの研究開発(33) : ミリ波OFDMシステムの装置試作と伝送実験(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般セッション)
• B-5-91 超高速ギガビット無線LANの研究開発(27) : ミリ波OFDMシステムにおけるベースバンド部の試作(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般セッション)
• 高電圧動作によるAlGaN/GaN HEMTの相互変調歪プロファイル改善
• B-5-105 超高速ギガビット無線LANの研究開発(12) : OFDM方式の装置概要(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般講演)
• B-5-198 超高速ギガビット無線LANの研究開発(3) : OFDM方式のシステム構成(B-5.無線通信システムB(ワイヤレスアクセス),一般講演)
• ホール障壁除去によるInP HEMTのg_d周波数分散の抑制
• ホール障壁除去によるInP HEMTのg_d周波数分散の抑制
• ミリ波帯CMOSパワーアンプ(マイクロ波/一般)
• ミリ波帯CMOSパワーアンプ(マイクロ波/一般)
• C-10-19 寄生容量低減によるミリ波用InAlAs/InGaAs HEMTの低雑音化(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• C-2-16 90nm Si-CMOSによる20GHz、100mW高出力増幅器(C-2.マイクロ波A(マイクロ波・ミリ波能動デバイス),一般セッション)
• CS-3-5 90nmCMOS技術を用いたミリ波パワーアンプ(C-3. ミリ波無線システムと回路・デバイスの開発動向,シンポジウムセッション)
• ミリ波帯大容量伝送システム実現に向けた7.6ps InP HEMT短パルス発生器(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
• C-10-5 InP HEMT短パルス発生器のジッタ特性(C-10.電子デバイス,一般講演)
• C-10-4 InAlAs障壁層を薄層化したInAlAs/InGaAs HEMTの雑音特性(C-10.電子デバイス,一般講演)
• C帯超300W、50%GaN高出力・高効率増幅器(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
• 高信頼GaN-HEMT開発のための劣化モード解析(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• 高信頼GaN-HEMT開発のための劣化モード解析(半導体表面・界面制御・評価と電子デバイスの信頼性)
• CI-1-5 70-100GHz帯10Gb/s無線通信用InP HEMT送受信モジュールの開発(依頼シンポジウム,CI-1.高速ミリ波無線通信用デバイス・IC技術の現状と展望,ソサイエティ企画)
• C-10-5 0.1-μm InP HEMTによる85-GHz 15.5-dBm分布型増幅器(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• InP HEMT技術を用いた40Gbit/s動作デジタル回路(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
• InP HEMT技術を用いた40Gbit/s動作デジタル回路(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
• ミリ波高出力GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• ミリ波高出力GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• ミリ波高出力GaN-HEMT(窒化物及び混晶半導体デバイス)
• C-10-14 空間構造InP HEMTのワイドゲート化による雑音特性改善(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• ミリ波向け高耐圧・高出力GaN-HEMT(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス/一般)
• 100W出力AlGaN/GaN EモードHEMT増幅器(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• 100W出力AlGaN/GaN EモードHEMT増幅器(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
• ミリ波向け高耐圧・高f_ GaN-HEMT(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• 絶縁ゲートGaN-HEMTの電流コラプス(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• 超高速MMIC作製のためのInP HEMTデバイス技術(半導体のプロセス・デバイス(表面,界面,信頼性,一般))
• 障壁層薄層化によるInP系HEMTの特性改善
• 横方向スケーリングによるInP系HEMTの高周波特性向上
• InAlAs障壁層薄層化によるInP系HEMTのソース抵抗低減および相互コンダクタンス向上
• 衝突イオン化抑制によるInP HEMTの信頼性改善(化合物半導体デバイスの高信頼化技術論文)
• 招待講演 InP-HEMT MMICを用いたミリ波インパルス無線の検討 (電子デバイス)
• i線露光による0.1μmゲート長InP HEMTの作製(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
• 絶縁ゲートGaN-HEMTの電流コラプス
• 超高速IC用InP HEMTデバイス・プロセス技術
• 高出力AlGaN/GaN HEMT用の非Al系オーミック電極(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
• 高出力AlGaN/GaN HEMT用の非Al系オーミック電極(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
• 高出力AlGaN/GaN HEMT用の非Al系オーミック電極(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
• ミリ波向け高耐圧・高f_ GaN-HEMT(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
• ミリ波向け高耐圧・高f_ GaN-HEMT
• InP系HEMTの均一性と40Gbit/s光通信用ICへの適用
• InP系HEMTの均一性と40Gbit/s光通信用ICへの適用
• InP-HEMTを用いた超低消費電力(0.5W以下)50Gb/sフルレート4:1MUX、1:4DEMUXIC
• InP HEMT技術を用いた100-Gbit/s 2:1マルチプレクサと80-Gbit/s D-FF
• InP HEMT技術を用いた100-Gbit/s 2 : 1マルチプレクサと80-Gbit/s D-FF
• InP HEMTを用いた超高速デジタルIC
• InP HEMT技術を用いた100-Gbit/s 2:1マルチプレクサと80-Gbit/s D-FF(ミリ波デバイス・回路・システム応用一般)
• CT-2-2 ミリ波用InP HEMTの熱雑音抑制(CT-2.電子デバイスおよび集積システムにおける雑音の解析・抑制・応用に関する最先端技術-,チュートリアルセッション,ソサイエティ企画)
• C-2-31 68-110GHz超広帯域増幅器の開発(C-2.マイクロ波A(マイクロ波・ミリ波能動デバイス),一般セッション)
• 75nm InP HEMTによる20Gb/s 4.9ps短パルス発生器の開発
• 75nm InP HEMTによる20Gb/s 4.9ps短パルス発生器の開発
• 寄生容量低減によるHEMT IC動作速度の向上
• CT-1-5 InP HEMT技術による100Gbit/s動作ICの実現と将来展望(CT-1. 化合物半導体電子デバイスの現状とその可能性-次世代エレクトロニクスの代替と補完-, エレクトロニクス2)
• InP-HEMTを用いた超低消費電力(0.5W以下)50Gb/sフルレート4:1MUX、1:4DEMUX IC(アナログ・ディジアナ・センサ,通信用LSI)
• InP系HEMTの低雑音化とミリ波応用
• InP HEMT を用いた超高速デジタルIC
• InP-HEMT MMICを用いたミリ波インパルス無線の検討(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
• InP HEMT技術を用いた100-Gbit/s 2:1マルチプレクサと80-Gbit/s D-FF
• C-10-13 非対称リセスInP HEMTによるミリ波LNAの雑音改善手法(C-10.電子デバイス,一般セッション)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討 (電子デバイス)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討 (レーザ・量子エレクトロニクス)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討 (電子部品・材料)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,関連技術,及び一般)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,関連技術,及び一般)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,関連技術,及び一般)
• C-2-88 77GHz帯ミリ波レーダ用受信回路の開発(C-2.マイクロ波C(マイクロ波・ミリ波応用装置),一般セッション)
• ミリ波センサ用低雑音増幅器および検波器(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討
• ミリ波センサ用低雑音増幅器および検波器
• ミリ波用GaN-HEMTに対するSiイオン注入技術の検討

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク