28a-K-3 無水HFガスによるin-situ自然酸化膜エッチング機構
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概要
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- 1996-03-26
著者
-
村岡 浩一
(株)東芝研究開発センター
-
國島 巌
(株)東芝セミコンダクター社
-
高木 信一
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
-
鳥海 明
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
-
早坂 伸夫
(株)東芝 UL研
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