2層Al配線を用いた1Mビット強誘電体メモリー技術
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概要
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- 1999-06-10
著者
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金谷 宏行
(株)東芝セミコンダクター社
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國島 巌
(株)東芝セミコンダクター社
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首藤 晋
(株)東芝セミコンダクター社
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日高 修
(株)東芝セミコンダクター社
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國島 巌
株式会社東芝セミコンダクター社
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田中 真一
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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田中 寿実夫
(株)東芝 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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森本 豊太
(株)東芝
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金谷 宏之
(株)東芝
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金谷 宏行
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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国島 巌
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ
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國島 巌
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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國島 巌
(株)東芝ulsi研究所
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田中 寿実夫
(株)東芝マイクロエレクトロクス技術研究所
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田中 真一
(株)東芝
-
田中 寿実夫
(株)東芝
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