30a-PC-13 高段差被覆性を有するWN-CVD成膜技術

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概要

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• 1997-03-28

著者

• 国島 巌

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 早坂 伸夫

  (株)東芝 UL研

• 佐々木 圭一

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所プロセス技術研究所, ULSI研究所

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