対向ターゲット式スパッタ法によるCo-Cr膜の柔軟性について : 画像情報記録
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人映像情報メディア学会の論文
- 1992-07-17
著者
関連論文
- 対向ターゲット式スパッタ法によるTb-Fe-Co/Al多層膜の構造と磁気特性
- 異常Hall効果を用いた垂直記録媒体の磁化過程観測
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- 異常 Hall 効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Co-Crスパッタ膜の結晶構造による磁気ひずみの変化 : スパッタ法によるCo-Cr垂直磁気記録媒体の作製に関する一考察
- 大飽和磁化Fe-Co(-Ta):N薄膜の軟磁気特性と熱処理効果 ( 磁性薄膜, 一般)
- 垂直磁気異方性を有するFe-Zrスパッタ膜の作製 : 画像記録情報
- 磁界印加堆積法によるNi-Fe/Co_Cr_多層膜の透磁率向上 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- 対向ターゲット式スパッタ法による等方的高透磁率Ni-Fe/Al, Ni-Fe/Co_Cr_多層膜の作製
- スパッタ中膜面磁界によるNi-Fe/Al多層膜の軟磁気特性の改善
- 磁気ヘッド用パーマロイ薄膜作製における各種スパッタ法の適用
- プラズマフリー高速スパッタ法によるTbFeCoアモルファス薄膜の磁性と記録特性
- Krイオンビームスパッタ堆積によるGMR多層膜の特性改善
- Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- イオンビームスパッタ法によるNi-Fe/Cu巨大磁気抵抗効果多層膜のバッファー層制御特性
- Bi添加バリウムフェライト薄膜の特性
- MR2000-14 Si下地層によるCo/Cu多層膜のGMR特性改善
- Xeをスパッタガスとした大飽和磁化Baフェライト膜の作製
- プラズマフリー・スパッタ法で作製したCo-Znフェライト膜の結晶性と磁気特性
- Xeを用いたスパッタリングによる大飽和磁化Baフェライト薄膜の作製と磁気特性
- 非化学量論組成のBaフェライト・スパッタ膜の結晶構造と磁気特性
- 高保磁力フェライト膜の作製とリジッドディスク媒体への応用
- Co-Znフェライト薄膜の磁気特性と記録再生特性
- 磁気記録媒体用Coフェライトめっき薄膜の作製
- 極薄膜CoCr層によるパーマロイ下地膜の配向度制御 : 画像記録情報
- Co-Cr/Cr系高密度長手記録媒体の強磁性層の特性評価
- Si下地層上のCo/Cu多層膜の結晶性とGMR特性
- スピンバルブ用反強磁性FeMn膜のSi下地層による特性改善(磁性薄膜及び一般)
- 垂直磁気記録用Baフェライト薄膜
- 鉄-コバルト多層膜の磁気特性
- 離散型ヘッド・パッド方式における媒体剛性とディスク摺動の関係 : 画像情報記録
- 8)Co-Cr系フレキシブルディスクシステムのトライボロジ的考察(録画研究会)
- Co-Cr系フレキシブルディスクシステムのトライボロジー的考察
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Co-Cr-Ta/Pt/Ti垂直記録膜の作製とPt中間層による微細粒子化
- Co-Cr垂直記録媒体における非磁性シード層の基板温度最適化
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- Co-Cr垂直磁化膜の異常ホール効果測定と磁気特性の評価
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- スピンバルブ用Ni-Fe/FeMn二層膜の交換バイアス磁界
- C-7-8 Ar・Kr混合ガススパッタによるSrフェライト薄膜の作製
- Pt下地層改良によるBaMフェライト薄膜の微粒子化
- 磁性薄膜講座 VI : 6. 磁気ヘッド用磁性薄膜
- 対向ターゲット式スパッタ法により作製した(La,Sr)MnO_3薄膜の磁気特性
- スパッタ法・めっき法によるフェライト薄膜の堆積技術と構造・物性の比較
- 磁性薄膜講座 V : 5. 記録媒体用磁性薄膜
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- Coスピネル系フェライト薄膜媒体の記録特性と低ノイズ化
- Cr下地層の改善による長手磁気記録用Co-Cr-Ta薄膜の特性改善(磁性薄膜及び一般)
- Al置換BaMフェライト薄膜の磁気特性
- PtおよびAu下地層を使用したBaフェライト薄膜の作製
- スパッタ法による磁性膜作製におけるガス種の検討
- 低ノイズ垂直磁気記録層用AI置換BaMフェライト薄膜
- 垂直磁気記録用Co-Cr薄膜媒体の保磁力と結晶子配向の関係
- 垂直磁気記録用Co-Cr薄膜媒体の保磁力と結晶子配向の関係
- Co-Cr系合金スパッタ膜の保磁力発現に関する考察
- Co-Cr系合金スパッタ膜の保磁力発現に関する考察
- Co-Cr-(Ta)薄膜の膜厚方向における磁気特性分布とCo_Cr_下地層効果 ( 磁性薄膜, 一般)
- Baフェライト磁気ディスクの低温作製と記録再生特性
- Pt下地層を用いたBaフェライト垂直磁気記録媒体の特性改善
- 磁性薄膜講座 IV : 4. 構造制御磁性薄膜
- 磁性薄膜講座III : 3. フェリ磁性薄膜
- 磁性薄膜講座 II : 2. 強磁性薄膜材料
- 磁性薄膜I 1.堆積方法
- Co-Cr-Ta-Mo垂直媒体の磁気特性と記録再生特性
- 垂直磁気記録媒体用a-Co-Zr-Ta軟磁性スパッタ膜の特性改善
- 垂直磁気記録媒体用 a-Co-Zr-Ta 軟磁性スパッタ膜の特性改善
- ターゲット利用率の優れたスパッタ法による電子・磁性材料薄膜の形成と特性
- 封じ込め磁界を利用したトロイダルプラズマ式マグネトロンスパッタ法の開発
- 6)Tough-Flexibility of Sputtrerd Co-Cr Thin Films by Facing Targets Sputtering Method
- 対向ターゲット式スパッタ法によるCo-Cr膜の柔軟性について : 画像情報記録
- 水平磁界内蔵形対向タ-ゲット式スパッタリング
- 対向ターゲット式スパッタ法によるCo-Znスピネルフェライト薄膜の低温形成と磁気特性
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- 極薄膜Co-Crスパッタ膜の結晶配向と磁気的挙動
- Co-Crスパッタ膜の構造と磁性
- Coスピネル系フェライト薄膜媒体の記録特性と低ノイズ化
- 会長就任にあたって
- イオンビームスパッタ法によるFe-Co系薄膜の作製とその磁気特性
- Crystal structure of Ti thin film deposited by facing targets sputtering.