垂直磁気記録媒体用a-Co-Zr-Ta軟磁性スパッタ膜の特性改善
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概要
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垂直磁気記録媒体の軟磁性層として一般的なNi-Fe薄膜に比べ大きな飽和磁化をもつアモルファスCo-Zr(-Ta)薄膜に着目し、Krガスを用いた対向ターゲット式スバッタ法によって作製した。Co-Zrスパッタ薄膜は低ガス圧、低基板温度で作製した際に優れた軟磁気特性をもつことが分かった。さらに、薄膜のアモルファス化を促進し磁気歪み定数を変化させるためにCo-ZrにTaを加えたところ、Co_<85.2>Zr_<3.6>Ta_<11.2>の組成においてH_c=0.75Oe, μ_r=580ともっとも優れた軟磁気特性が得られた。
- 1995-11-23
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
田中 聡
東京工業大学大学院理工学研究科機械物理工学専攻
-
直江 正彦
東京工業大学 電子物理工学専攻
-
松下 伸広
東京工大 応用セラミックス研
-
松下 伸広
東京工業大学 応用セラミックス研究所
-
直江 正彦
東京工業大学
-
松下 伸広
東京工業大学
-
田中 聡
東京工業大学 工学部 電子物理工学科
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