WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術
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概要
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大容量波長多重(WDM)光通信の実用化のためには、精密に波長が制御された光源を低価格で提供できる技術を確立する必要がある。一つの回答は、必要な波長とその要求数に応じて、任意の波長の光源を任意の数だけウエハ内に一括作製する技術である。本報告では、最近、我々が開発した、WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術について述べる。本技術の特徴は、電子ビーム(EB)露光と狭幅(〜1.5μm)選択MOVPEを組み合わせて、同一ウエハ内に異なるプラッグ波長の回折格子と、各プラッグ波長に追随した(ディチューニングが制御された)異なる利得ピーク波長を有する多重量子井戸(MQW)活性層とを一括形成する点にあり、これによって同一ウエハ内で広波長域に亘り、高均一で高性能な特性を有する異波長光源を一括作製することが可能となる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1997-11-05
著者
-
山崎 裕幸
NECナノエレクトロニクス研究所
-
佐々木 達也
Necシステムデバイス研究所
-
工藤 耕治
NECナノエレクトロニクス研究所
-
山口 昌幸
NEC化合物デバイス事業部
-
石坂 政茂
NECナノエレクトロニクス研究所
-
石坂 政茂
Necナノエレクトロニクス研究所:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
-
工藤 耕治
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
-
山口 昌幸
NEC株式会社光・超高周波デバイス研究所
-
石坂 政茂
NECシステムプラットフォーム研究所
-
石坂 政茂
NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所
-
佐々木 達也
NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所
-
山崎 裕幸
NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所
-
石坂 政茂
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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