光・電気配線セラミック基板におけるクラッド層の形成
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概要
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光エレクトロニクス分野において、光素子と電気素子を同一基板上にハイブリッド実装することが考えられている。この実装基板には従来からの電気配線の他に光導波路からなる光配線が必要とされる。光導波路は屈折率の大きいコア層と小さいクラッド層から構成され、Si基板上のSiO_3導波路,ポリイミドによる光導波路などが報告されている。今回既に各種報告されているガラス基板上の導波路を応用するために、セラミック多層基板上へガラスクラッド層を設けることを検討した(図1)。ガラスクラッド層は電気回路の絶縁性やコスト,光結合部の平坦性の面から厚膜法とした。なお、コア層にはTa_3O_5膜を用いた。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1995-03-27
著者
-
宮入 圭一
信州大学工学部
-
宮入 圭一
信州大学工学部電気電子工学科
-
宮入 圭一
信州大工
-
宮川 文雄
新光電気工業株式会社開発統轄部
-
宮川 文雄
新光電気工業
-
宮川 文雄
新光電気工業株式会社アドバンストパッケージ開発部
-
中島 茂生
新光電気工業株式会社
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