Ni-Fe裏打ち軟磁性層の多層膜化による低ノイズ垂直磁気記録媒体の開発
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概要
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Ni-Fe裏打ち軟磁性層における軟磁気特性の改善と表面粗さの改善及び軟磁性層に起因するノイズの抑制を達成するためにNi-Fe裏打ち軟磁性層をamorphous Siを用いて[Ni-Fe/Si]n多層膜を作製した。その結果、軟磁性層のstripe domainのような表面磁区構造形成の抑制およびCo-Cr-Ta記録層の高い結晶配向性や垂直保磁力、磁性粒子の微細化が達成された。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-08-31
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
孔 碩賢
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
孔 碩賢
東京工業大学大学電子物理工学科
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
-
孔 碩賢
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学
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