18aWD-5 オゾンによるSi(111)表面のナノスケールサイト選択酸化

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概要

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• 社団法人日本物理学会の論文
• 2001-09-03

著者

• 北島 正弘

  防衛大理工

• 三木 一司

  物材機構

• 三木 一司

  電総研

• 成島 哲也

  物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 北島 正弘

  物材機構

• 三木 一司

  物材機構ナノマテ:産総研ナノテク

• 三木 一司

  物材・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 三木 一司

  産業技術総合研究所 ダイヤモンド研究センター

• 三木 一司

  物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所

• 三木 一司

  (独)物質・材料研究機構 ナノ有機センター

• 三木 一司

  (独)物質・材料研究機構ナノ有機センターナノアーキテクチャーグループ

• 北島 正弘

  物質・材料研究機構

• 北島 正弘

  物材機構ナノ計測セ

• 三木 一司

  産総研ナノテク部門

• 成島 哲也

  産総研ナノテク部門

• 北島 正弘

  物質・材料研究機構:筑波大

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