26p-YR-16 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究II
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1998-09-05
著者
-
板倉 明子
物質・材料研究機構
-
北島 正弘
金属材料技術研究所
-
成島 哲也
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
板倉 明子
金材技研
-
成島 哲也
金材技研
-
北島 正弘
金材技研
-
河辺 隆也
筑波大学大学院物理学研究科
-
北島 正弘
物質・材料研究機構
-
河邊 隆也
筑波大学物理学系
-
河邊 隆也
筑波大物理
-
北島 正弘
物材機構:筑波大
-
北島 正弘
物質・材料研究機構物性解析研究グループ
-
板倉 明子
学習院大学理学部自然科学研究科
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