シリコン表面酸化反応におけるSiO分子の生成および脱離過程に関する量子化学的検討
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Si(111)表面の酸化過程におけるSiO分子の生成・脱離に関し、密度汎関数法に基づく量子化学計算を適用した。酸素原子のSi表面への化学吸着状態としてのon-top吸着ならびにbridging吸着状態の2種類を考え、SiO分子の安定な状態の検討を行った。その結果、bridging吸着状態がより安定であることが分かった。次にSiOの脱離過程を2つのモデルで検討したところ、SiO分子がバルクのSi面に垂直に位置した場合から脱離するさい、エネルギー的にプラトーになる領域が認められ、SiO分子が脱離するときかなり自由に回転ができるであろうとの実験結果を支持するものと考えられる。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 1996-04-25
著者
-
北島 正弘
金属材料技術研究所
-
宮本 明
東北大学工学研究科
-
久保 百司
東北大学工学部分子化学工学科
-
山内 亮
東北大学工学部 分子化学工学科
-
宮本 明
東北大学工学部
-
中村 一隆
金属材料技術研究所
-
遠藤 明
東北大学工学部
-
STIRLING Andras
東北大学工学部
-
中村 一隆
東北大学工学部 金属材料技術研究所
-
北島 正弦
東北大学工学部 金属材料技術研究所
関連論文
- 569 原子力製鉄用耐熱合金の還元ガス中における高温特性(耐熱鋼・耐熱合金, 性質, 日本鉄鋼協会第 101 回(春季)講演大会)
- 水素化が及ぼすシリコン表面の偏光解析パラメータの変化
- 28p-YP-4 シリコン酸化表面の水素化に伴う偏光解析パラメータの変化
- 触媒設計のための仮想環境(「バーチャルリアリティ-究極の人・機械インタフェース」)
- TiO_2系触媒による芳香族塩素化合物の分解
- 高張力鋼溶接熱影響部における部分溶融域の形成について(第 1 報) : 部分溶融域の観察と偏析
- シリコンプラズマ酸化過程の Tight-binding 分子動力学シミュレーション
- 固体中の水素のラマン分光
- シリコン酸化膜成長過程の表面応力変動
- NF_3とSi基板の相互作用:密度汎関数法による検討
- Tight-binding分子動力学法を用いたSi表面の酸化過程におけるSiOの脱離挙動
- シリコン表面の酸化反応ポテンシャル曲面の計算
- 第2回「原子力極限環境下の材料化学」国際シンポジウム
- 原子力極限環境材料の開発
- シリコンのプラズマ酸化の偏光解析研究
- プラズマ酸窒化中のシリコン表面応力変動
- 電子照射によるシリコンの表面応力の緩和
- クリプトン酸素混合プラズマによるシリコン酸化中の表面応力変動
- 30aXE-8 欠陥による表面応力の発生とその電子誘起緩和
- ドデカンチオールの脱離に伴う微少応力の変動
- プラズマ酸化過程におけるSiの表面応力の研究
- 26p-YR-16 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究II
- 26p-YR-15 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究I
- 水素イオンビームを用いたイオンマイクロアナリシスの評価
- 固定発生源からのNOx,SOx浄化プロセス (環境問題における触媒の役割)
- コヒーレントフォノン分光によるイオン照射材料研究
- 24pK-5 コヒーレントフォノン分光の格子欠陥分布測定への応用
- 25a-YN-11 イオン照射ビスマスのフォノンダイナミクス
- 1p-T-2 結晶シリコン中の水素分子の検出とその挙動
- 水素原子処理シリコン結晶中の水素分子
- 遷移金属-NOx分子間の相互作用に関する計算化学的検討
- AIPO系ミクロ多孔体結晶の破壊過程の分子シミュレーション
- Embedded-atom分子動力学法による金属クラスター・表面の動力学
- 個体触媒反応におけるコンピュータ化学
- 分子シミュレーション結果の3次元ダイナミック視覚化のためのソフトウェア開発
- Eley-Rideal反応の2次元トラジェクトリー計算
- 高温Ge(100)表面のO_2分子線散乱による反応生成物GeOの共鳴多光子イオン化
- Si表面でのO_2分子線散乱で生成脱離するSiOの振動回転分布
- シリコンのプラズマ酸化における酸素イオンの効果
- 29a-T-1 シリコンのプラズマ酸化と表面電位の変動
- 2p-PSA-55 シリコンのプラズマ酸化の試料バイアス効果
- 29p-WC-5 生成脱離SiO分子の多光子イオン化検出によるSi表面酸化の研究
- 13a-PS-9 高速偏光解析によるSi表面酸化超薄膜成長速度の基板結晶方向依存
- 13a-DK-2 希ガスイオン照射によるグラファイト結晶乱れ速度のイオン質量依存性
- 31p-N-4 イオン照射グラファイトの欠陥緩和過程
- スタンフォード大学化学科Zare研究室
- シリコン表面酸化反応におけるSiO分子の生成および脱離過程に関する量子化学的検討
- 仮想現実感を統合した新しい分子動力学計算ソフトウェアの開発と、結晶成長過程のダイナミクス研究への応用
- 希ガス原子照射下でのAlリフロー挙動の分子動力学法による検討
- Si表面における周期的密度汎関数計算
- 触媒と表面科学の夢
- 粘土鉱物のダイナミックスとゼオライト中の有機分子の吸着挙動 : 分子動力学法とコンピュータグラフィックスによる検討
- 高速化量子分子動力学法の開発とシリコン系材料への応用
- 化学ソフトウエア大国への戦略と展望
- サマリー・アブストラクト
- 触媒のコンピュータ化学にかける夢
- 担持金属触媒における金属超微粒子の微細構造とダイナミックス--分子動力学法とコンピュ-タグラフィックスによる検討 (〔触媒学会〕第70回触媒討論会予稿)
- 半経験的SCF MO法による液体インジウム触媒上でのメタノ-ル脱水素反応機構に関する研究 (第37回触媒討論会特集号)
- パルス法によるアルコール類脱水素反応機構の研究 (触媒討論会特集-予-)
- 溶融状態における金属の触媒作用-1-メタノール脱水素活性-予- (触媒討論会(特集)-27-)
- 膜透過の分子シミュレーション
- 触媒設計のための新規分子計算プログラムの開発
- ゼオライト中の交換イオンの微細構造と動的挙動:分子動力学法とコンピュ-タグラフィックスによる検討 (第68回〔触媒学会〕触媒討論会特集号〔講演予稿〕)
- 第41回米国真空学会シンポジウム