電子照射によるシリコンの表面応力の緩和
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概要
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- 日本表面科学会の論文
- 2001-09-10
著者
-
板倉 明子
物質・材料研究機構
-
北島 正弘
金属材料技術研究所
-
成島 哲也
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
-
河辺 隆也
筑波大学大学院物理学研究科
-
河辺 隆也
筑波大 物理学系
-
北島 正弘
物質・材料研究機構
-
河邊 隆也
筑波大学物理学系
-
河辺 隆也
筑波大学物理学系 国際連合大学高等研究所兼任
-
北島 正弘
物材機構:筑波大
-
北島 正弘
物質・材料研究機構物性解析研究グループ
-
板倉 明子
学習院大学理学部自然科学研究科
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