板倉 明子 | 金材技研
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概要
関連著者
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板倉 明子
金材技研
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板倉 明子
物質・材料研究機構
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北島 正弘
金属材料技術研究所
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成島 哲也
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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成島 哲也
金材技研
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北島 正弘
金材技研
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北島 正弘
物質・材料研究機構
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北島 正弘
物材機構:筑波大
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北島 正弘
物質・材料研究機構物性解析研究グループ
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板倉 明子
学習院大学理学部自然科学研究科
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河辺 隆也
筑波大学大学院物理学研究科
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河邊 隆也
筑波大学物理学系
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河辺 隆也
筑波大 物理学系
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河邊 隆也
筑波大物理
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河辺 隆也
筑波大学物理学系 国際連合大学高等研究所兼任
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荒川 一郎
学習院大
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荒川 一郎
学習院大学大学院自然科学研究科
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荒川 一郎
学習院大理
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西岡 泰城
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
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清水 達夫
テキサスインスツルメント筑波研究開発センター
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河辺 隆也
筑波大院物理
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山口 秀哉
学習院大理
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板倉 明子
学習院大学理学部物理教室
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伊知地 国夫
カシオ計算機 (株) 八王子研究所
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荒川 一郎
学習院大学・理学部・物理教室
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荒川 一郎
学習院大学理学部物理教室
著作論文
- 28p-YP-4 シリコン酸化表面の水素化に伴う偏光解析パラメータの変化
- 30aXE-8 欠陥による表面応力の発生とその電子誘起緩和
- 26p-YR-16 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究II
- 26p-YR-15 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究I
- 29p-BPS-27 偏光解析法による物理吸着層の二次元相転移の研究
- 偏光解析法によるXe/Ag (111) 物理吸着系の研究