荒川 一郎 | 学習院大理
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概要
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荒川 一郎
学習院大理
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荒川 一郎
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学習院大理
著作論文
- 21aPS-72 物理吸着した水分子から光励起脱離する水クラスターイオンの運動エネルギー分布測定(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 15aPS-35 レーザープラズマ真空紫外光源を用いた光励起脱離実験装置の開発(領域 9)
- 28pWR-9 希ガス固体表面上から光励起脱離する水クラスタ : イオンの入射エネルギー依存性(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
- 28pWR-8 固体Xe表面上に吸着した水クラスターの光励起脱離とサイズ分布(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
- 28pWR-7 レーザープラズマ真空紫外光源を用いた希ガス固体および水の光励起脱離実験(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
- 20pYC-11 希ガス固体表面に吸着した水から電子遷移誘起脱離する水クラスターイオンのサイズ分布
- 20aPS-49 希ガス固体表面から電子遷移誘起脱離する水クラスターイオンの入射エネルギー依存性
- 29aZE-10 水が吸着した希ガス固体表面上から電子・光励起脱離する水クラスターイオンの観測
- 28aWD-2 Ag(110) 表面上のクリプトン物理吸着層の構造変化
- 30pYE-6 単結晶銀表面上のAr物理吸着層の成長過程(表面界面構造(金属・その他))(領域9)
- 27pPSA-17 Ag(111)、Ag(110)およびAg(100)表面上の希ガス物理吸着層の構造と二次元相転移(領域9ポスターセッション)(領域9)
- 23aYE-3 Ag (111) および Ag (100) 表面上の Kr 物理吸着層の二次元相転移
- 19pWD-6 単結晶銀表面上のXe物理吸着層の成長過程
- 28aXE-13 二次元相転移に対する下地の影響 : Xe/Ag(111)とXe/Ag(100)
- 28aXE-12 Ag(100)上の二次元Xe結晶の方位
- 25pWB-2 Ag(111)とAg(100)上のXe物理吸着層の二次元相転移
- 22pW-7 単結晶Ag上のXe吸着層の構造と成長
- 28pWR-11 Pin-on-disk法による天然水晶の摩擦帯電と発光の研究(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
- 20pXA-2 液体ヘリウム温度における銅表面からの水素イオンの電子励起脱離(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 15aPS-41 Ag(111) と Ag(110) 上の Ar 吸着層の成長過程の比較観察(領域 9)
- 12aXF-5 Ag(110) 上の Ar 物理吸着層の構造と成長過程(表面界面構造 : 金属・有機化合物, 領域 9)
- 28pWR-10 絶縁体間の摩擦で起こる発光現象の研究 : 気体放電発光と接触点での発光の相関(表面界面ダイナミクス(電子励起・摩擦))(領域9)
- 29pZF-7 希ガスクラスターにおける電子励起過程の実験的研究
- 25aT-11 電子・光励起による希ガス固体からの全脱離収率の測定
- 29a-WC-9 希ガス混合固体からの電子遷移誘起脱離
- 28p-PSB-27 Photon and electron stimulated desorption from the surface of solid Ne: angular distribution study of desorbed metastables.
- 13a-PS-35 Photon stimulated desorption of metastables from the surface of Ne and Ar solid alloy.
- 28a-E-3 希ガス固体表面からの光励起脱離 : 準安定ネオン原子の脱離
- 4a-PS-14 光励起による希ガス固体表面からのイオン生成
- 27a-E-1 超音速クラスタービームを用いた希ガス固体表面の電子励起過程の研究
- 31p-PSB-69 希ガス固体からのイオンの電子遷移誘起脱離
- 31p-J-6 電子衝撃による希ガス固体表面からのイオンの電子遷移誘起脱離
- 5a-R-10 希ガス固体表面からのイオンの電子励起脱離
- 28aWR-9 銅表面に物理吸着した水素の電子衝撃脱離(表面局所光学現象/表面界面ダイナミクス)(領域9)
- 13a-PS-32 希ガス凝縮層からのイオンの電子励起脱離
- 12a-DH-11 希ガス固体表面における電子励起脱離 : Ne/Ar混合系からの準安定粒子の脱離
- 1p-H-4 CH_4/グラファイトの吸着等温線に現れる吸着 : 脱離ヒステリシス
- 27p-PSA-13 Kr, Xe/グラファイトの吸着等温線に現れる吸着/脱離ヒステリシス
- 29p-BPS-27 偏光解析法による物理吸着層の二次元相転移の研究
- 26p-O-1 物理吸着層のWETTING転移
- 8aSP-6 光励起脱離のためのレーザープラズマ真空紫外光源(表面界面ダイナミクス,領域9)
- 9aSM-4 Ag(100)表面上のクリプトン物理吸着層の構造(表面界面構造・電子物性,領域9)
- 9aSM-9 水を吸着した希ガス固体表面から電子遷移誘起脱離する水クラスターイオンの研究(表面界面構造・電子物性,領域9)
- 2p-F4-4 偏光解析法による物理吸着層の観察(表面・界面)
- 27pWD-2 水をさせたxe固体表面からの水クラスターイオンの電子衝撃脱離(27pWD 表面界面ダイナミクス,領域9(表面・界面,結晶成長分野))
- 25pYF-3 単結晶銀表面上のキセノンおよびクリプトン物理吸着層の構造(25pYF 表面界面構造,領域9(表面・界面,結晶成長分野))
- 3p-T-4 凝縮Ne固体表面における準安定励起原子の光衝撃脱離(3pT 原子・分子,原子・分子)