20pXA-2 液体ヘリウム温度における銅表面からの水素イオンの電子励起脱離(表面・界面ダイナミクス(半導体表面・実験),領域9(表面・界面,結晶成長))
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 2005-08-19
著者
-
三浦 崇
学習院大理
-
荒川 一郎
学習院大理
-
田澤 俊彦
学習院大理
-
荒川 一郎
学習院大
-
Arakawa I
Department Of Physics Gakushuin University
-
Arakawa Ichiro
Department Of Physics Gakushuin University
-
Arakawa I
Department Of Partial And Complete Denture School Of Life Dentistry At Tokyo The Nippon Dental Unive
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