19pYN-4 「シリコンの照射欠陥の低エネルギー電子による回復」(領域10,領域4合同シンポジウム : 電子励起と不純物ダイナミックスのコントロール,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 社団法人日本物理学会の論文
• 2005-08-19

著者

• 北島 正弘

  防衛大理工

• 北島 正弘

  物材機構

• 北島 正弘

  物質・材料研究機構

• 北島 正弘

  物材機構ナノ計測セ

• 北島 正弘

  物質・材料研究機構:筑波大

関連論文

• 23aPS-41 カーボン系材料におけるコヒーレントフォノンのプラズモン増強(23aPS 領域5ポスターセッション(光電子分光・光誘起相転移等),領域5(光物性))
• 水素化が及ぼすシリコン表面の偏光解析パラメータの変化
• 28p-YP-4 シリコン酸化表面の水素化に伴う偏光解析パラメータの変化
• 30aRF-7 グラファイトのコヒーレント光学フォノン(領域5,領域1合同招待講演,30aRF 超高速現象・非線形光学,領域5(光物性))
• 22aYD-4 強誘電体Pb_Ge_xTeにおける構造相転移ダイナミクスのフェムト秒ポンプ-プローブ分光(I)(領域5,領域10合同 誘電体の光制御・光学応答,領域5(光物性))
• 17aRE-14 Biにおけるコヒーレントフォノン : 高密度励起下の非調和効果
• 28aZF-13 異方的応力による Si(001)-2×1 表面上酸素解離吸着反応の分岐比変化
• 28aZF-10 Si(100) 表面での水素引き抜き反応による脱離水素分子の飛行時間測定
• 19pPSB-52 Si(100)表面における水素の反応性散乱ダイナミクス
• 29pPSA-37 固体表面上の散乱水素分子の内部状態選別並進運動エネルギー測定
• 29aYE-10 高密度光励起下におけるグラファイトの格子ダイナミクスの研究
• 28pYA-1 グラファイトのキャリアおよびフォノンのダイナミクスへの格子欠陥の影響
• 26aRA-2 グラファイト表面におけるDモード・コヒーレントフォノンの振幅増強(26aRA 炭素系物質,領域7(分子性固体・有機導体))
• ブリスタリングによる応力変調を利用した局所シリコン酸化の観察
• 24pRC-4 半金属Bi超薄膜におけるキャリアダイナミクスの時間領域THz分光(24pRC 超高速現象,領域5(光物性))
• 27aPS-36 一次元に配列した金微粒子からの第二高調波発生の研究(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
• シリコンプラズマ酸化過程の Tight-binding 分子動力学シミュレーション
• 固体中の水素のラマン分光
• プラズマ酸窒化中のシリコン表面応力変動
• 電子照射によるシリコンの表面応力の緩和
• クリプトン酸素混合プラズマによるシリコン酸化中の表面応力変動
• 30aXE-8 欠陥による表面応力の発生とその電子誘起緩和
• ドデカンチオールの脱離に伴う微少応力の変動
• プラズマ酸化過程におけるSiの表面応力の研究
• 26p-YR-16 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究II
• 26p-YR-15 バイアスを印可したプラズマ酸化過程におけるSi表面応力の研究I
• 23pPSA-95 LaAlO_3におけるコヒーレント光学フォノンの歪み依存性(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
• 19pWH-6 Ultrafast Electron/Phonon Dynamics in Carbon Materials(Atom Dynamics and Formation of Nano-objects by Electronic Excitations)
• 19aZA-1 ダイアモンドのコヒーレント光学フォノン(超高速現象・非線形光学,領域5,光物性)
• 26aWB-8 ビスマスのコヒーレントA_およびE_gフォノンの温度依存性(26aWB 超高速現象,領域5(光物性))
• 30aRF-8 金属におけるコヒーレント光学フォノンのファノ干渉(領域5,領域1合同招待講演,30aRF 超高速現象・非線形光学,領域5(光物性))
• フェムト秒レーザーによるコヒーレントフォノダイナミクス
• 19pYN-4 「シリコンの照射欠陥の低エネルギー電子による回復」(領域10,領域4合同シンポジウム : 電子励起と不純物ダイナミックスのコントロール,領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性))
• 21aYD-6 金属Znにおけるコヒーレント光学フォノンの温度依存性(超高速現象・格子振動・緩和励起子,領域5(光物性))
• 25aXP-7 Siにおけるコヒーレント光学フォノンのdephasing(超高速現象,領域5(光物性))
• シリコンにおけるファノ干渉の実時間観測(最近の研究から)
• 低エネルギー電子照射による結晶欠陥の原子レベル回復現象
• 20pYD-9 Si(001) 表面の内部応力変化と酸素解離吸着のダイナミクス
• 半金属・半導体のコヒーレントフォノン : 緩和ダイナミクスへのイオン照射誘起欠陥の影響
• コヒーレントフォノンの励起と制御:ポラリトニクスへの展開 (特集 フェムト秒パルスレーザーによる新しい展開)
• コヒーレントフォノンとその化学への展開
• 28pYA-2 n-GaAsにおけるコヒーレントフォノン生成及び緩和への格子欠陥の影響
• コヒーレントフォノン分光によるイオン照射材料研究
• パルス高電圧に伴うグロー放電を利用したプラズマイオン注入による炭素膜の作製
• 偏光解析(小特集用語解説)
• 6.偏光解析による損耗の実時間計測(小特集>
• 企画委員会活動と今後
• 18aWD-5 オゾンによるSi(111)表面のナノスケールサイト選択酸化
• 27pPSA-60 配列制御したガラス表面上の金微粒子からの第二高調波発生(27pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 24pPSA-36 半金属Bi超薄膜における表面金属状態の時間領域THz分光(24pPSA 領域5 ポスターセッション,領域5(光物性))
• 18pPSB-18 コヒーレントフォノン分光法によるグラフェンの超高速ダイナミクス(18pPSB 領域5ポスターセッション(放射光・非線形光学・超高速現象),領域5(光物性))
• 9aSN-7 Si(001)表面上酸素解離吸着ダイナミクスの応力効果(表面・界面ダイナミクス,領域9)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク