反応性イオンビームスパッタリングによるCoFe_2O_4(100)配向膜の作製
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概要
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- 2012-03-15
著者
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院理工学研究科電子物理工学専攻
-
中川 茂樹
東京工業大学
-
中川 茂樹
東工大
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院
-
中川 茂樹
東京工業大学大学院電子物理工学専攻
-
久保田 雄紀
東京工業大学大学院理工学研究科
-
間宮 啓介
東京工業大学大学院理工学研究科
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