斜方入射スパッタ粒子を利用して作製した高異方性磁界を有するFeCoB膜
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2012-02-01
著者
関連論文
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製(光記録,磁気記録)
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製
- Fe/Pt/X三層構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製 (磁気記録・情報ストレージ)
- 高い面内異方性磁界を有するFeCoB膜に及ぼすRu下地層の影響
- 結晶性Si/NiFe/FeCoB裏打ち軟磁性層を用いた垂直磁気記録媒体
- 垂直MTJにおけるFeCoの結晶配向によるTbFeCo/FeCo2層膜の磁気的結合への影響の評価
- 応力アシスト磁化反転を用いたGMR多層膜の作製
- Cu/Pt/Fe三層構造から作製した熱アシスト記録媒体用 FePtCu薄膜
- 高異方性磁界を有するRu/FeCoB膜の方向性結晶配列と異方的残留応力
- RE-TM膜を用いた垂直MTJ中のFeCoスピン偏極層の結晶配向と磁化特性の評価(固体メモリおよび一般)
- 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製(固体メモリおよび一般)
- RE-TM膜を用いた垂直MTJ中のFeCoスピン偏極層の結晶配向と磁化特性の評価(固体メモリ及び一般)
- 応力アシスト磁化反転用スピン注入型垂直磁化GMR多層膜の作製(固体メモリ及び一般)
- Cu/Pt/Fe三層膜によるFePtCu規則合金薄膜の特性制御(ヘッド・媒体および一般)
- 企画の意図
- 垂直磁化MRAM用応力アシスト磁化反転の改善指針(信号処理および一般)
- 垂直磁化MRAM用応力アシスト磁化反転の改善指針(信号処理及び一般)
- 対向ターゲット式スパッタ法によるグラニュラテープメディアの搬送成膜(媒体および一般)
- 対向ターゲット式スパッタ法によるグラニュラテープメディアの搬送成膜(媒体及び一般)
- Cu/Pt/Fe三層膜によるFePtCu規則合金薄膜の特性制御(ヘッド・媒体及び一般)
- ガラス基板上のc軸配向FePt膜のキュリー点制御とMgOテンプレートによる作製法(媒体および一般)
- ガラス基板上のc軸配向FePt膜のキュリー点制御とMgOテンプレートによる作製法(媒体及び一般)
- 結晶性FeCoB裏打ち軟磁性層によるグラニュラー垂直磁気記録媒体の特性改善(ヘッド・媒体および一般)
- 異常ホール効果によるCoCr系媒体とCo/Pt多層媒体の磁化機構評価
- 強磁性ホール効果によるCoCr系媒体とCo/Pt多層媒体の磁化機構評価
- 異常Hall効果を用いた垂直記録媒体の磁化過程観測
- 強磁性Hall効果を用いた垂直磁気記録用二層記録媒体の磁化特性評価 (光記録・情報記録材料,一般)
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- 異常 Hall 効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- 結晶性FeCoB裏打ち軟磁性層によるグラニュラー垂直磁気記録媒体の特性改善(ヘッド・媒体及び一般)
- 高異方性磁界FeCoB薄膜の結晶子歪みと配向制御・その応用
- 高異方性磁界を有する結晶質FeCoB裏打ち軟磁性層上の垂直グラニュラー膜の配向制御(ハードディスクドライブおよび一般)
- 企画の意図(磁化反転の新たな描像)
- 大飽和磁化Fe-Co(-Ta):N薄膜の軟磁気特性と熱処理効果 ( 磁性薄膜, 一般)
- 垂直磁気異方性を有するFe-Zrスパッタ膜の作製 : 画像記録情報
- 磁界印加堆積法によるNi-Fe/Co_Cr_多層膜の透磁率向上 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- 対向ターゲット式スパッタ法による等方的高透磁率Ni-Fe/Al, Ni-Fe/Co_Cr_多層膜の作製
- スパッタ中膜面磁界によるNi-Fe/Al多層膜の軟磁気特性の改善
- CS-7-5 垂直配向FePt規則合金膜と高異方性裏打ち軟磁性層およびそれらの磁気的相互作用評価(CS-7.高密度垂直磁気記録方式に資する先端磁性薄膜材料開発,シンポジウム)
- (001)配向FePt規則合金膜と裏打ち軟磁性層との磁気的相互作用
- (001)配向FePt規則合金膜と裏打ち軟磁性層との磁気的相互作用(信号処理及び一般)
- FePt/NiFe-2層構造における磁気的相互作用評価
- (001)配向L1_0-FePt膜の形成のためのFe(100)およびPt(100)配向膜
- Fe/Pt/X三構造によるFePt系垂直磁化極薄膜の作製(光記録,磁気記録)
- 強磁性ホール効果による二層垂直磁気記録媒体の評価
- 強磁性ホール効果による二層垂直磁気記録媒体の評価(画像記録装置及び一般)
- Krイオンビームスパッタ堆積によるGMR多層膜の特性改善
- Ni-Fe/Cu多層膜における界面へのイオン照射 (多層膜・人工格子・グラニューラー)
- Ni-Fe/Cu多層膜の界面におけるイオン照射効果と磁気抵抗特性の変化
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- Ni-Fe/Cu GMR多層膜におけるイオン照射とアニールによる界面制御効果とスピンバルブのFeMn層配向制御効果
- イオンビームスパッタ法によるNi-Fe/Cu巨大磁気抵抗効果多層膜のバッファー層制御特性
- 裏打ち軟磁性層用スピネルフェライト薄膜の高速成膜技術
- 希土類-遷移金属薄膜を利用した垂直Hall-MRAM素子の提案(画像記録装置及び一般)
- 強磁性ホール効果による記録層/裏打ち層2層垂直磁気記録媒体の磁化機構評価
- 企画の意図
- 第43回Magnetism and Magnetic Materials(MMM)会議報告
- 高異方性磁界を有する結晶質FeCoB裏打ち軟磁性層上の垂直グラニュラー膜の配向制御(ハードディスクドライブ及び一般)
- MR2000-14 Si下地層によるCo/Cu多層膜のGMR特性改善
- Xeをスパッタガスとした大飽和磁化Baフェライト膜の作製
- プラズマフリー・スパッタ法で作製したCo-Znフェライト膜の結晶性と磁気特性
- Xeを用いたスパッタリングによる大飽和磁化Baフェライト薄膜の作製と磁気特性
- 非化学量論組成のBaフェライト・スパッタ膜の結晶構造と磁気特性
- 高保磁力フェライト膜の作製とリジッドディスク媒体への応用
- Co-Znフェライト薄膜の磁気特性と記録再生特性
- C-7-9 強磁性薄膜用MgO下地層薄膜配向制御
- 反応性対向ターゲット式スパッタ法による Mn-Zn フェライト薄膜の高速成膜
- Co-Cr/Cr系高密度長手記録媒体の強磁性層の特性評価
- 希土類-遷移金属薄膜を利用した垂直 Hall-MRAM 素子の提案
- 強磁性ホール効果によるRE-TM膜の補償組成近傍の磁気特性評価
- 高密度磁気 Hall メモリ素子用Dy_x(Fe_Co_)_垂直磁化膜
- 強磁性ホール効果によるCo/Pd多層膜の磁化機構評価(磁気記録)
- C-7-4 強磁性ホール効果によるCo/Pd多層膜のPd層厚依存性の評価(C-7.磁気記録)
- 強磁性ホール効果によるCo/Pd多層膜の磁化機構評価
- 強磁性ホール効果による[Co/Pd]_n多層膜の磁性粒子間相互作用評価(磁気記録媒体)
- 強磁性ホール効果による記録層/裏打ち層2層垂直磁気記録媒体の磁化機構評価
- 強磁性ホール効果による[Co/Pd]_n多層膜の磁化粒子間相互作用評価
- 裏打ち軟磁性層用FeCoB薄膜の結晶子歪と高異方性磁界の関係(記録システムおよび一般)
- 裏打ち軟磁性層用FeCoB薄膜の結晶子歪と高異方性磁界の関係(記録システム及び一般)
- GHz帯に共鳴周波数を有するFeCoB/NiFe/Si薄膜の透磁率特性
- Si下地層上のCo/Cu多層膜の結晶性とGMR特性
- スピンバルブ用反強磁性FeMn膜のSi下地層による特性改善(磁性薄膜及び一般)
- 強磁性Hall効果を用いた垂直磁気記録用二層記録媒体の磁化特性評価 (光記録・情報記録材料,一般)
- 異常Hall効果を用いたCo-Cr-Ta/Pt垂直磁化膜の磁化過程観測
- Co-Cr-Ta/Pt/Ti垂直記録膜の作製とPt中間層による微細粒子化
- Co-Cr系合金薄膜の結晶成長と熱処理効果
- Co-Cr系合金薄膜の結晶成長と熱処理効果
- Pt下地層およびPt中間層を用いたCo-Cr-Ta系垂直記録媒体の作製
- Co-Cr垂直記録媒体における非磁性シード層の基板温度最適化
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- 垂直磁気記録用Co-Cr-Ta/Pt二層膜の作製
- Co-Cr垂直磁化膜の異常ホール効果測定と磁気特性の評価
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- 強磁性Hall効果による極薄Co-Cr薄膜の磁化過程解析
- スピンバルブ用Ni-Fe/FeMn二層膜の交換バイアス磁界
- C-7-8 Ar・Kr混合ガススパッタによるSrフェライト薄膜の作製
- Pt下地層改良によるBaMフェライト薄膜の微粒子化
- 対向ターゲット式スパッタ法により作製した(La,Sr)MnO_3薄膜の磁気特性
- スパッタ法・めっき法によるフェライト薄膜の堆積技術と構造・物性の比較
- CPP構造スピントランジスタ素子の試作(信号処理および一般)