青柳 克信 | 理研フロンティア
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概要
関連著者
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青柳 克信
理研フロンティア
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青柳 克信
理研
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菅野 卓雄
理研フロンティア
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菅野 卓雄
千葉大工
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青柳 克信
立命館大学coe推進機構
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難波 進
長崎総合科学大
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石橋 幸治
理研フロンティア
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瀬川 勇三郎
理研フォトダイナミクス
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瀬川 勇三郎
理研
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石橋 幸治
理研
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菅野 卓雄
東洋大学工学部
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青柳 克彦
理研フロンティア
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石橋 幸治
(独)理化学研究所 石橋極微デバイス工学研究室
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草野 淳一
理研フロンティアナノ電子材料
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難波 進
理研フロンティア
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塚越 一仁
理研
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佐藤 崇
筑波大数理物質
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大塚 洋一
筑波大物理:学際物質センター
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青柳 克信
東工大総合理工学:crest(jst)
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宮崎 久生
独立行政法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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塚越 一仁
産総研:crest(jst)
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宮崎 久生
理研
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小高 隼介
理研
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塚越 一仁
物材機構:産総研ナノテクノロジー:理研
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瀬川 勇三郎
理研フロンティア
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小高 隼介
産総研:東工大総理工
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Ootuka Youiti
Institute Of Physics Tsukuba University
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バード J.P.
筑波大物質工
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升田 公三
阪大工
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飯村 靖文
東京農工大
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菅野 卓雄
東洋大工
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神田 晶申
理研フロンティアCREST JST
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升田 公三
筑波大
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落合 勇一
千葉大工
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布施 智子
理化学研究所石橋極微デバイス工学研究室
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神田 晶申
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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神田 晶申
筑波大学物理
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升田 公三
阪大基工
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難波 進
阪大基工
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布施 智子
理研
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山本 和貫
千葉大工
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Bird J.P.
理研フロンティア
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森山 悟士
物材機構
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大塚 洋一
筑波大物理
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瀬川 勇三郎
理研フォトダイナミクス研究センター
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神田 晶申
筑波大物理
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後藤 秀徳
筑波大数理物質
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後藤 秀徳
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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佐藤 崇
筑波大物理
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難波 進
阪大基礎工
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森山 悟士
理研
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塚越 一仁
独立行政法人物質・材料研究機構 国際ナノアーキテクトニクス研究拠点
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鈴木 正樹
理研:科技団戦略
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野村 晋太郎
理研フロンティア
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Souza M.
Jst:nagoya Univ.
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三原 勝
理研
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青柳 克信
東京工業大学
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青柳 克信
理化学研究所
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石橋 幸治
理化学研究所半導体工学研究室
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田中 翔
筑波大学大学院数理物質科学研究科
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森木 拓也
筑波大数理物質
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石橋 幸治
理化学研究所
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川辺 光央
筑波大物質工
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飯村 靖文
理研フロンティア
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川辺 光央
筑波大学 物理工学系
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大西 泰造
筑波大物質工
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大塚 洋一
筑波大数理物質
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神田 晶申
筑波大数理物質
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飯高 敏晃
理研フロンティア
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後藤 秀徳
筑波大物理
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田中 翔
筑波大物理
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鈴木 正樹
理化学研究所半導体工学研究室
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難波 進
理研
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森山 悟士
理化学研究所・石橋極微デバイス工学研究室
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三原 勝
理研フロンティア
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三浦 登
東大物性研
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フェリー D.K.
アリゾナ州立大
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三沢 和彦
東大理
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小林 孝嘉
東大理
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内田 和人
東大物性研
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野々山 信二
山形大地教
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平山 秀樹
理化学研究所
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中村 孝夫
住友電気工業株式会社半導体技術研究所
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下村 哲
理研 フロンティア
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中村 孝夫
山形大学大学院医学系研究科生命環境医科学専攻
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中村 孝夫
住友電工半導体研究所
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一色 秀夫
電気通信大学 電気通信学部 電子工学科
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フェリー D.
Zrizona州立大ナノ研
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平山 秀樹
(独)理化学研究所
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中村 孝夫
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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秋田 勝史
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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蒲生 健次
阪大基礎工
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森木 拓也
筑波大物理
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難波 進
大阪大学基礎工学部
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中村 孝夫
住友電気工業(株)半導体研究所
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山本 和貫
(財)生研
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エイキス R.
千葉大工
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三好 正毅
山口大院理工
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佐野 直克
関西学院大 理工
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草野 淳一
理研 フロンティア
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三原 勝
レーザー科学研究グループ
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侯 宏啓
理研フロンティア
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野々山 信二
理研フロンティア
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草野 淳一
阪大基礎工
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一色 秀夫
理研フロンティア
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趙 新為
理研
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Miura N
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo
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長岡 洋介
京大基研
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エイキス R.
アリゾナ州立大学
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趙 新為
理研フロンティア
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Geisler M.C.
理研
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GEISLER M.C.
理研フロンティア
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バード J.P.
理研フロンティア
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丹慶 勝市
松阪大物理
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飯村 靖文
東京農工大・工
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田中 悟
北海道大学 電子科学研究所
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小林 駿介
東京農工大学工学部電子情報工学科
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木山 誠
住友電工アドバンストマテリアル研究所
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秋田 勝史
住友電工アドバンストマテリアル研究所
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中村 孝夫
住友電工アドバンストマテリアル研究所
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村上 浩一
筑波大学物質工学系
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青柳 克信
阪大基礎工
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大塚 洋一
筑波大学物理学専攻・TIMS
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津谷 大樹
物材機構
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佐野 直克
関西学院大学理学部
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石井 真史
物質・材料研究機構
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邑瀬 和生
阪大理
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目黒 多加志
理研
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津谷 大樹
理研:東工大総理工
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田中 悟
理化学研究所半導体工学研究室
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秋田 勝史
住友電工半導体研究所
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京野 孝史
住友電工半導体研究所
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京野 孝史
住友電気工業(株)半導体技術研究所
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鷹岡 貞夫
阪大理
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河野 行雄
理研
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河野 行雄
理化学研究所基幹研究所
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升田 公三
阪大基礎工
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村上 浩一
阪大基礎工
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塚本 竹雄
理化学研究所・石橋極微デバイス工学研究室
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佐藤 崇
筑波大学物理
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後藤 秀徳
筑波大学物理
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田中 翔
筑波大学物理
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高垣 雪彦
阪大基礎工
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バウアー ゲリット
フィリップス研
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バウアー G.E.W
フィリップス研究所
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侯 宏啓
理研
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瀬川 勇三郎
理研 フロンティア
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飯村 靖文
理研 フロンティア
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青柳 克信
理研 フロンティア
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難波 進
理研 フロンティア
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草野 淳一
帝京大理工
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周 均銘
中国科学院物理研
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Williams R.S.
UCLA
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下村 哲
理研フロンティア
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Williams R.S.
U.C.L.A.
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蒲生 健次
大阪大学基礎工学部
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Williams R.S.
理研
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ストーパ マイケル
理研フロンティアナノ電子材料
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飯村 靖文
農工大工
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バウアー G.e.w
デルフト大
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目黒 多加志
理化学研究所
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石井 真史
大阪大学基礎工学部
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久保田 浩史
阪大理
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石橋 幸司
理研
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小林 駿介
東京農工大・工
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久保田 浩史
京大・理
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津谷 大樹
理化学研究所
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西川 通則
日本合成ゴム(株)東京研究所
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石井 真史
Spring-8高輝度光科学研究センター
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石井 真史
高輝度光科学研究センター:理化学研究所播磨研究所
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高垣 雪彦
パウル・ドルーデ固体電子研
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田中 健一郎
理研
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森山 悟士
理研東工大総理工
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布施 智子
理研東工大総理工
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鈴木 正樹
JST戦略創造
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青柳 克信
理研東工大総理工
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石橋 幸治
JST戦略創造
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森山 悟士
理研,東工大総理工
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布施 智子
理研,東工大総理工
-
鈴木 正樹
科技団戦略
-
青柳 克信
理研,東工大総理工
-
石橋 幸治
科技団戦略
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CEISLER M.C
理研フロンティア
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武内 道一
理化学研究所・東京工業大学
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Stopa M.
理研フロンティア
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高垣 雪彦
阪大基礎工:阪大理
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塚本 竹雄
理化学研究所・石橋極微デバイス工学研究室:東京工業大学大学院総合理工学研究科
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塚本 竹雄
理化学研究所
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Omling P
Lund Univ. Lund Swe
-
Omling P.
Division Of Solid State Physics And The Nanometer Structure Consortium University Of Lund
-
Samuelson L.
Division Of Solid State Physics And The Nanometer Structure Consortium University Of Lund
-
KOWALSKI B.
Division of Solid State Physics and the Nanometer Structure Consortium, University of Lund
-
Pistol M.-E.
Lund大固体物理
-
Hessmann D.
Lund大固体物理
-
Pryor C.
Lund大固体物理
-
Kowalski B.
Lund大固体物理
-
Omling P.
Lund大固体物理
-
Samuelson L.
Lund大固体物理
-
大西 泰造
筑波大物理工
-
川辺 光央
筑波大物理工
著作論文
- InAlGaN4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高効率化(窒化物及び混晶半導体デバイス)
- 24aWB-2 グラファイト超薄膜における超伝導近接効果II(グラフェン(電子物性・スピン),領域7,領域4合同講演,領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aWB-9 グラファイト超薄膜-強磁性体接合の電気伝導特性II(グラフェン(電子物性・スピン),領域7,領域4合同講演,領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aRA-7 グラファイト超薄膜 : 強磁性体接合の電気伝導特性(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aRA-8 グラファイト超薄膜における超伝導近接効果(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
- 24aRA-9 グラファイト超薄膜の電気伝導におけるAlトップゲートによる電界効果(グラファイト・グラフェン,領域7,分子性固体・有機導体)
- ナノテクノロジーと深紫外発光素子の開発
- InAlGaN 4元混晶を用いた紫外LEDの短波長化と高出力化
- 18pRG-9 グラファイト超薄膜-金属接合の電気伝導特性(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
- 18pRG-7 グラファイト超薄膜における近接効果による超伝導電流の観測(グラファイト,領域7,分子性固体・有機導体)
- 26aZB-11 グラファイト超薄膜/金属電極接合の電極依存性(26aZB グラファイト,領域7(分子性固体・有機導体))
- 26aZB-12 グラファイト超薄膜の電気伝導の磁場・ゲート電圧依存性(26aZB グラファイト,領域7(分子性固体・有機導体))
- 25p-X-19 GaAs薄膜・量子井戸の励起子
- 2a-D-3 GaAs/AlAs多重量子井戸における磁場効果 II
- 30p-Z-15 InGaAs-GaAs異種接合におけるバンドオフセット値の精密測定 II
- 6a-B-5 GaAs/AlGaAs多重量子井戸のへき開綿発光の磁場効果
- 3a-B-13 GaAs薄膜における励起子の磁場効果
- 3p-C-17 磁場を用いたGaAs-InGaAs歪超格子のバンドオフセット値の精密決定
- 3p-C-8 GaAs/AlGaAs多重量子井戸における磁場効果
- 4a-C3-19 CuCl薄膜内の励起子と励起子分子
- 4a-C3-18 GaAs薄膜内励起子ポラリトンの量子化
- 4a-C3-15 GaAs/Al_Ga_As多重量子井戸におけるフォトルミネッセンスの偏光特性
- GaAs/GaAlAs量子井戸細線からの発光の過渡特性
- 28p-B-5 CuCl単結晶薄膜の発光と時間分解スペクトル
- 多重量子井戸における励起子ダイナミクスの電界効果
- 30p-S-6 光誘起デジタルエッチングとその表面過程
- 31a-TF-1 GaAs表面-吸着子相互作用のモデル計算
- 3p-T-7 GaAs表面-吸着子相互作用のab initio法によるモデル計算
- 3p-ZE-9 GaAs/AlGaAs量子細線の磁気抵抗振動
- フロンティア研究 (国際化時代の応用物理) -- (21世紀にむけての科学技術)
- 28a-A-12 強磁場中でのGaAs/AlGaAs 量子井戸二次元励起子のダイナミクス
- 28a-A-7 GaAs 量子井戸におけるエネルギー緩和
- 3a-X-1 p型変調ドープ量子細線の磁気光学効果II
- 29a-Z-3 p型変調ドープ量子細線の磁気光学効果
- カーボンナノチューブを用いた量子ナノデバイス : 量子相関デバイスの実現に向けて
- 23pPSB-34 光アンテナを用いたナノスケール局所電場変調分光(領域5ポスターセッション,領域5,光物性)
- カーボンナノチューブ量子ドットのテラヘルツ光応答(ミリ波・テラヘルツ波デバイス・システム)
- 異種基板上へのカーボンナノチューブ量子ドットの作製と評価
- 14pYB-8 単層カーボンナノチューブ量子ドットの励起スペクトル(量子ドット・量子閉じ込め : 実験, 領域 4)
- 30aYA-12 単層カーボンナノチューブ量子ドットにおけるShell Fillingとゼーマン分裂の観測(量子ドット(開放型・結合型・その他))(領域4)
- カーボンナノチューブ量子ドットにおける単一電子スピンの発生 : スピンの量子操作を目指して(量子効果デバイス及び関連技術)
- カーボンナノチューブ量子ドットにおける単一電子スピンの発生 : スピンの量子操作を目指して(量子効果デバイス及び関連技術)
- 31a GE-10 パルス・レーザ照射による非晶質 : 結晶遷移の動的挙動
- 29p-YN-8 Si超微結晶薄膜の磁気光学効果II
- 3a-G-17 Si超微結晶薄膜の磁気光学効果
- 30p-A-3 微小超伝導リングの磁束量子化II
- 28p-YG-7 微小超伝導リングの磁束量子化
- 28p-YG-6 微小超伝導ディスクへの渦糸侵入
- 31p-X-5 超伝導SETアイランドにおけるフラクソイドの振舞い
- 7p-N-3 コルゲーションゲート型量子細線における電子散乱機構
- 7p-N-3 コルゲーションゲート型量子細線における電子散乱機構
- 28p-ZH-1 GaAs二次元励起子のスピン緩和
- 1a-E-6 量子ドットの位相緩和時間と逃避時間
- 5a-F-12 GaAs広い量子井戸における励起子発光の偏光
- 1D112 光偏光記憶膜を用いた液晶配向制御
- 半導体量子ドットの磁気光学効果 : InP量子ドットの場合
- 28a-L-4 スプリットゲート細線における電気伝導の長さ依存性II
- 13p-DF-1 スプリットゲート細線における電気伝導の長さ依存性
- 13a-K-4 量子細線における局在効果
- 13a-K-4 量子細線における局在効果
- 5p-N-8 中間電極が超伝導リングからなるSETトランジスタの電気伝導II
- 4a-M-5 フタロシアニンのレーザー励起光電導
- 30p-E-3 フタロシアニンの光伝導と電気伝導
- ホログラフィックグレ-ティングの溝の形の制御-2-イオンエッチングによる方法
- 光ICにおける技術的問題点
- 8p-C-19 フタロシアニンの光電導と電気伝導
- 3p-K-9 フタロシアニンの電気伝導
- 1a-TE-4 フタロシアニンの電気伝導とESR
- 15a-C-6 フタロシアニンの電気伝導
- フタロシアニンの電気伝導と光伝導 : 分子結晶・有機半導体
- フタロシアニンの電気伝導 : 分子結晶・有機半導体
- バリスティックな量子ドットにおける伝導率ゆらぎの磁場・温度依存性
- 超伝導2重微小トンネル接合における電気伝導
- 28p-G-9 GaAs-InGaAs歪超格子の励起子束縛エネルギー(28pG 半導体(量子ホール効果,超格子))
- 1a-E-6 量子ドットの位相緩和時間と逃避時間(1aE 半導体,低温合同(量子細線,メゾスコピック),低温)
- 3a-YH-8 中間電極にリングのある超伝導2重微小トンネル接合における磁気抵抗振動(3aYH 低温(微小トンネル接合),低温)
- 28p-G-7 GaAs/AlGaAs系量子井戸の磁場効果(28pG 半導体(量子ホール効果,超格子))