瀬川 勇三郎 | 理研
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概要
関連著者
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瀬川 勇三郎
理研
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瀬川 勇三郎
理研フォトダイナミクス研究センター
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瀬川 勇三郎
理研フォトダイナミクス
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瀬川 勇三郎
東北大理:理研pdc
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瀬川 勇三郎
理化学研究所
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瀬川 勇三郎
理研・フォトダイナミクス
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難波 進
理研
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青柳 克信
理研
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瀬川 勇三郎
理研CMRG
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青柳 克信
理研フロンティア
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瀬川 勇三郎
理化学研究所フォトダイナミクス研究センター
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難波 進
長崎総合科学大
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草野 淳一
理研フロンティアナノ電子材料
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安井 孝成
理研フォトダイナミクス
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張 保平
東北大理:理研pdc
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水谷 五郎
北陸先端大マテリアル
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鯉沼 秀臣
東工大応セラ研
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鯉沼 秀臣
東京大学工学部工業化学科
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鈴木 隆則
防衛大
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山本 雄一
東工大応セラ研
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八幡 佳成
北陸先端大マテリアル
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松本 祐司
東京工大 応用セラミックス研
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水谷 五郎
北陸先端大:jst-crest
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瀬川 勇三郎
理研フロンティア
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飯村 靖文
東京農工大
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柳瀬 明久
理研フォトダイナミクス
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難波 進
理研フロンティア
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松本 祐司
東工大応セラ研
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松本 祐司
東京工業大学応用セラミックス研究所
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渡邊 亮輔
北陸先端大マテリアル
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湯浅 真擁
北陸先端大マテリアル
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湯 子康
理研フォトダイナミクス
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鯉沼 秀臣
東京大学新領域創成科学研究科
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石田 洋一
東京工業大学 応用セラミックス研究所
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伊藤 正
東北大工
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枝松 圭一
東北大工
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鯉沼 秀臣
Tokyo Institute Of Technology
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鯉沼 秀臣
東京工業大学フロンティア創造共同研究センター
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鯉沼 秀臣
東京工大 応用セラミックス研
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三原 勝
理研
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鯉沼 秀臣
東工大フロンティア共同研究センター
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瀬川 勇三郎
理研PDC
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馬場 哲也
産業技術研 計測標準研究部門
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難波 進
阪大基礎工
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田邨 光規
北陸先端大マテリアル
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馬場 哲也
理研
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三好 正毅
山口大院理工
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草野 淳一
阪大基礎工
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月井 学
東北大工
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小林 孝嘉
東大理
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鈴木 隆則
理研
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三谷 忠興
東大工
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野村 晋太郎
東大理
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三原 勝
理研フロンティア
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飯村 靖文
理研フロンティア
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張 保平
理研PDC
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張 保平
理研フォトダイナミクス
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瀬川 勇三郎
東大工
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東 健策
阪大工
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飯村 靖文
東京農工大・工
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三沢 和彦
東大理
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大高 一雄
千葉大工
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国府田 隆夫
東大・工
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十倉 好紀
東大・理
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後藤 武生
東北大理
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十倉 好紀
東大工:産総研cerc:erato-mf
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下村 哲
理研 フロンティア
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木戸 義勇
金材技研
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猿倉 信彦
理研フォトダイナミクス研究センター
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LIU Zhenlin
理研フォトダイナミクス研究センター
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伊藤 正
東北大・工
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竹田 研爾
日本合成ゴム筑波研
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竹田 研爾
東大 工
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劉 振林
分子科学研究所
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岩井 荘八
理化学研究所
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松本 祐司
東工大フロンティア
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LIU Zhenlin
岡崎国立共同研究機構 分子科学研究所
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瀬川 勇三郎
東北大理
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片山 正士
東工大応セラ研
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Maung S.
北陸先端大材料
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劉 振林
理研フォトダイナミクス
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福原 幹夫
東芝タンガロイ(株)
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和泉田 真司
分子研
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大高 一雄
千葉大学先進科学センター
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小室 修二
東洋大
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國府田 隆夫
東大工
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伊藤 正
東北大理
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東海林 篤
東北大理
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張 保平
東北大理
-
福原 幹夫
東芝タンガロイ
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水野 皓司
東北大通研
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草野 淳一
理研 フロンティア
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三原 勝
レーザー科学研究グループ
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Williams R.S.
UCLA
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LIU Zhenlin
理化学研究所フォトダイナミクス研究センター
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小室 修二
東洋大工(先端光応用計測研究センター)
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岩井 荘八
理研
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中川 修
阪大基工
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バウアー G.e.w
デルフト大
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安田 隆
理研フォトダイナミクス
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林部 和弥
東北大工
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竹田 研爾
Jsr
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猿倉 信彦
理研 フォトダイナミクス
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劉 振林
理研 フォトダイナミクス
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〓 鐘石
東北大通研
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小室 修二
東洋大工
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和泉田 伸司
分子研
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竹田 研爾
日本合成ゴム(株)筑波研究所
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三好 正毅
山口大工短
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三浦 登
東大物性研
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小林 孝嘉
東大理:理研フロンティア
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伊藤 正
阪大院基礎工
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綿谷 力
阪大基礎工
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橋本 哲
京教大
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東海林 篤
東北大通研
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内田 和人
東大物性研
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木戸 義勇
東北大 金研
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木戸 義勇
東北大金研
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国府田 隆夫
東大工
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国府田 隆夫
東京大学・工
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国府田 隆夫
日本女子大学理学部数物科学科
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島田 良子
日本女子大学理学部数物科学科
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今田 彩
日本女子大理
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藤村 徹
東北大工
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腰原 伸也
理研フォトダイナミクス
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安斉 裕
三井金属鉱業
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布下 正宏
三菱電機
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茂木 厳
東北大金研
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布下 正宏
三菱中研
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布下 正宏
三菱電機 中研
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中山 正敏
九大教養
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山岸 喜代志
三井金属総合研究所
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山岸 喜代志
三井金属鉱業(株)総合研究所
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中山 正敏
九州大学:日本物理学会
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藤村 徹
阪大院・基礎工
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Maung S
北陸先端大材料
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梅原 敏明
阪大工
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西原 浩
阪大工
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国松 洋
物性研
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国松 洋
東大物性研
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猿倉 信彦
分子科学研究所
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瀬川 勇三郎
Photodynamics Research Center The Institute Of Physical And Chemical Research (riken)
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佐野 直克
関西学院大 理工
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長倉 三郎
理研
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枝松 圭一
阪大院基礎工
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腰原 伸也
理研・フォトダイナミクス
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茂木 厳
東北大 金研
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茂木 巌
東北大 金研
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Bauer G.E.W.
デルフト大
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バウアー ゲリット
フィリップス研
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バウアー G.E.W
フィリップス研究所
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侯 宏啓
理研
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瀬川 勇三郎
理研 フロンティア
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飯村 靖文
理研 フロンティア
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青柳 克信
理研 フロンティア
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難波 進
理研 フロンティア
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草野 淳一
帝京大理工
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侯 宏啓
理研フロンティア
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周 均銘
中国科学院物理研
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下村 哲
理研フロンティア
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Williams R.S.
U.C.L.A.
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三好 正毅
山口大工短大
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Williams R.S.
理研
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杉元 晶子
三井金属鉱業
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山口 靖英
三井金属鉱業
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安田 隆
理化学研究所フォトダイナミクス研究センター
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張 保平
理化学研究所フォトダイナミクス研究センター
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〓 鐘石
名古屋工業大学大学院機能工学専攻
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Ekimov A.I.
A.F.Ioffe Physico-Technical Inst.
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小林 孝嘉
理研フロンティア
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Miura N
Institute For Solid State Physics University Of Tokyo
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和泉田 真司
理研
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和泉田 伸司
理研
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綿谷 力
阪大院基礎工
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山口 靖英
三井金属総合研究所
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杉元 晶子
三井金属総合研究所
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鵜久森 正毅
山口大工短
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小林 考嘉
理研
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Ekimov A.i.
A.f.ioffe Phys.-tech.inst.
-
猿倉 信彦
理化学研究所フォトダイナミクス研究センタ-
-
中川 修
阪大基礎工
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Koda Tomonori
Department Of Polymer Science And Engineering Yamagata University
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山岸 喜代志
三井金属鉱業 (株) 電子材料研究所
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周 均銘
中国科学院北京物理研究所
-
山岸 喜代志
三井金属鉱
著作論文
- 走査型近接場光学顕微鏡によるポリスチレン微粒子配列膜の観察
- 30aTF-5 磁化誘起SHG法を用いたCo:rutile TiO_2(110)表面磁化の異方性観察(30aTF 領域3,領域9合同 表面界面磁性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 30aTF-5 磁化誘起SHG法を用いたCo:rutile TiO_2(110)表面磁化の異方性観察(30aTF 領域3,領域9合同 表面界面磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-46 フェムト秒レーザーを用いた磁化誘起光第二高調波観測システムの構築(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 22pPSB-74 Co:TiO_2(110)からの磁化誘起SH光強度の方位角依存性(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-46 Co:TiO_2(110)におけるバルク吸収波長領域での磁化誘起SHGの観測(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 30aPS-65 磁化誘起SHG法によるCoを添加したルチルTiO_2(110)の表面磁性の研究(30aPS 領域9ポスターセッション(表面,界面,結晶成長),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 14aXD-11 磁化誘起 SHG 法を用いた Co・TiO_2 表面の磁性の研究(表面・界面磁性, 領域 3)
- 14aXD-11 磁化誘起 SHG 法を用いた Co : TiO_2 表面の磁性の研究(表面・界面磁性, 領域 9)
- 29a-B-6 ピコ秒トランジェントグレーティングによるCdS, CuCl素励起の拡散の測定 (II)
- 2a-Z-11 ピコ秒波長可変レーザーを用いたポラリトンの分散の測定 II : Cds について
- 2a-Z-2 ピコ秒円偏光励起による CuCl の k=0 の励起子分子の発光とその時間分解測定
- 5a-B-6 カルコゲナイドガラスにおける Photodarkening 初期過程の動的特性
- 25a-ZE-17 CuCl薄膜中の励起子分子
- 25a-ZE-16 CuCl薄膜における励起子の量子サイズ効果
- 27a-ZD-7 光誘起相転移におけるフォトキャリヤの役割
- 28a-G-9 ポリジアセチレン単結晶の光スイッチング
- 28pYF-10 非縮退二光子励起による CuCl 薄膜からの散乱光
- 28a-J-7 CuCl薄膜における磁気円偏光2色性: II
- 14a-DC-3 CuCl薄膜における励起子の量子サイズ効果III
- 14a-DC-1 CuCl薄膜における磁気円偏向2色性
- 30a-Q-9 CuCl薄膜における励起子の量子サイズ効果II
- 1a-N-7 GaAs/AlAs多重量子井戸内の2次元励起子の強磁場依存性
- 28a-ZH-13 GaAs/AlAs多重量子井戸内の2次元励起子の磁場依存性
- 25p-X-19 GaAs薄膜・量子井戸の励起子
- 2a-D-3 GaAs/AlAs多重量子井戸における磁場効果 II
- 30p-Z-15 InGaAs-GaAs異種接合におけるバンドオフセット値の精密測定 II
- 6a-B-5 GaAs/AlGaAs多重量子井戸のへき開綿発光の磁場効果
- 3a-B-13 GaAs薄膜における励起子の磁場効果
- 3p-C-17 磁場を用いたGaAs-InGaAs歪超格子のバンドオフセット値の精密決定
- 3p-C-8 GaAs/AlGaAs多重量子井戸における磁場効果
- レーザー単原子層成長法による成長層の特性評価
- 4a-C3-19 CuCl薄膜内の励起子と励起子分子
- 4a-C3-18 GaAs薄膜内励起子ポラリトンの量子化
- 4a-C3-15 GaAs/Al_Ga_As多重量子井戸におけるフォトルミネッセンスの偏光特性
- GaAs/GaAlAs量子井戸細線からの発光の過渡特性
- 28p-B-5 CuCl単結晶薄膜の発光と時間分解スペクトル
- 2次元励起子の非常に遅いエネルギ-緩和過程 (超高速量子エレクトロニクス) -- (物理への応用)
- 3p-C3-8 Ti:BeAl_2O_4中のTi^の光学的性質と電子状態
- ワイドギャップ2-6族半導体ZnSおよびZnOによる量子構造の作製
- ワイドギャップII-VI族半導体による量子構造の作製 (ワイドギャップ半導体とそのデバイス応用論文小特集)
- 3p-X-5 ZnCdSe/ZnSe多重量子井戸内励起子ポーラロンと強磁場
- 29a-Z-13 ZnCdSe/ZnSe多重量子井戸内励起子のg値の混晶比及び井戸幅依存性:I
- 28a-A-12 強磁場中でのGaAs/AlGaAs 量子井戸二次元励起子のダイナミクス
- 28a-A-7 GaAs 量子井戸におけるエネルギー緩和
- 銅ハライド : 励起子のFaraday効果 : イオン結晶
- 銅ハライド:励起子のFaranday効果 : イオン結晶, 光物性
- 14a-DC-2 半導体微粒子の磁気光学効果III
- 30a-Q-8 半導体微粒子の磁気光学効果II
- 25p-ZE-5 半導体微粒子の磁気光学効果
- 18aPS-21 CuCl薄膜における二光子励起散乱過程
- 31p-YG-4 NaCl中のCuCl超微粒子の二光子時間分解分光 II
- 7a-J-13 NaCl中のCuCl超微粒子の二光子時間分解分光
- 28p-YE-3 NaCl中のCuCl超微粒子の顕微分光
- CuCl超微粒子の二光子分光II
- 1a-KG-11 GaAs/GaAlAs単一量子井戸における担体のピコ秒ダイナミクス
- 6a-G-14 ピコ秒レーザーを用いたZnO等の発光寿命の測定 II
- 1a-X-9 誘電体球によりミリ波領域光結晶の製作
- 29a-W-12 誘電体球によるミリ波領域光結晶の製作
- 微小重力下での帯溶融法によるPbSnTe単結晶成長(無重力下における結晶成長)
- 26p-F-6 クリソベリル結晶の波長可変固体レーザー
- 29p-K-4 ポラリトンのダイナミックス (CuClを中心として)
- 1a-K-11 CuClのピコ秒誘導吸収による附加境界条件の検討(II)
- 4p-NE-4 CuClのピコ秒誘導吸収による附加境界条件の検討
- 30p-ZH-1 NaCl中のCuCl超微粒子の二光子時間分解分光III
- 30p-G-6 NaCl型結晶上へのCuClのエピタキシャル成長
- 5a-L-3 イオン性結晶のFaraday効果
- シンクロスキャンストリ-クを用いた半導体微弱光測定
- 3a-F-13 強磁場中でのGaAs/AlGaAs MQW二次元励起子のダイナミクス
- CuClの励起子ポラリトンと付加境界条件
- 4p-NE-5 CuClにおける励起子ポラリトンの拡散
- 2p-M-11 GaSeにおける励起子吸収の時間変化
- 2p-M-6 銅ハライド励起子のボトルネックの測定
- セラミックスの電磁気的・光学的性質 : VII. 光学的性質励起子とその光物性 : 酸化亜鉛を例として
- フォトニクスとナノケミストリー (特集:エレクトロニクスの最先端とナノケミストリー)
- 光物性の高速評価 (新春特集 新世紀のマテリアルハイウェイ--コンビナトリアル技術による材料開発)
- ZnO薄膜の励起子レーザー発振
- 新紫外材料ZnO系半導体の励起子光物性
- 励起子の平面閉じ込め効果
- 7a-J-18 ピコ秒レーザーを用いたZnOの発光寿命の測定
- 7a-J-14 CuCl励起子分子発光の一軸応力効果
- 5p-Q-2 CdS励起子分子の一軸応力効果
- 2p-Q-5 CdS及びZnOの励起子分子発光の一軸応力効果
- 14a-Y-9 CdS励起子分子発光の一軸応力による分裂
- 22p-H-1 CdS_Se_x混晶の発光
- 5a-L-9 CdS発光の圧力効果
- 10a-Q-12 CdS発光の圧力効果
- 3p-BG-6 共鳴二光子励起下のCuCl励起子系のピコ秒領域動的挙動の測定
- 3p-BG-5 ピコ秒レーザーを用いたCuBrの発光寿命の測定
- 4a-DR-7 共鳴二光子励起下のCuCl励起子分子ポラリトン系のピコ秒領域動的挙動の測定II
- 31p GF-5 ピコ秒トランジェントグレーティング法によるCuCl, CdS素励起の拡散の測定 (I)
- 31p GF-4 ピコ秒可変波長レーザーを用いたポラリトンの分散の測定
- 6a-A-10 色素レーザーによるCdTeの発光測定
- 3a-C-2 CuC1薄膜内の励起子と励起子分子(イオン結晶・光物性)
- 3a-D5-10 GaAs/GaAlAs多重量子井戸からの発光の時間変化(3a D5 イオン結晶・光物性(励起子・ポラリトン・ピコ秒分光),イオン結晶・光物性)
- 30a-LN-12 半導体超格子内キャリアーのダイナミクス(イオン結晶・光物性)