H24 フュームドシリカスラリーによる層間絶縁膜CMPにおける粗大砥粒とマイクロスクラッチの関係 : マイクロスクラッチ観察法の検討について(H2 加工(CMP-2))
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概要
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- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2009-03-18
著者
-
土肥 俊郎
九州大学大学院工学研究院
-
黒河 周平
九州大学大学院工学研究院
-
土肥 俊郎
埼玉大学教育学部
-
松川 洋二
九大
-
黒河 周平
九大
-
梅崎 洋二
九大
-
河野 博之
(株)トクヤマ化学技術研究所
-
梅崎 洋二
九州大学工学部
-
河野 博之
トクヤマ
-
伊藤 吉彦
九大院
-
土肥 俊郎
九大
-
土肥 俊郎
九州大学大学院
-
梅崎 洋二
九州大学
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