H14 有機EL材料の噴霧とその平坦化に関する検討(H1 加工(CMP-1))
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概要
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- 一般社団法人日本機械学会の論文
- 2009-03-18
著者
-
黒河 周平
九州大学大学院工学研究院
-
土肥 俊郎
埼玉大学教育学部
-
宮地 計二
旭サナック(株)
-
黒河 周平
九大
-
梅崎 洋二
九大
-
梅崎 洋二
九州大学工学部
-
土肥 俊郎
九大
-
土田 良彦
住友化学株式会社筑波研究所
-
栗塚 和昌
九大院
-
土肥 俊郎
九州大学大学院
-
土田 良彦
住友化学株式会社
-
梅崎 洋二
九州大学
-
宮地 計二
旭サナック (株)
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