シリコン微小電子源のイオンビーム空間電荷中和への応用(電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術)
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概要
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半導体イオン注入用極低エネルギーイオンビームの発散抑制を目的として、シリコン微小電子源(Si-FEA)を用いたイオンビームの空間電荷中和について検討を行なった。検討の結果、Si-FEAの放出電子をイオンビームへ供給することによりイオンの空間電荷が中和され、イオンビームの発散抑制を確認することが出来た。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2008-07-28
著者
-
石川 順三
Dep. Of Electronics And Information Engineering Chubu Univ.
-
辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
石川 順三
京都大学大学院工学研究科電子物性工学専攻
-
TSUJII Hirohiko
Research Center for Charged Particle Therapy, National Institute of Radiological Sciences
-
酒井 滋樹
日新イオン機器株式会社
-
木本 恒暢
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科
-
辻 博司
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
-
Tsuji Hiroshi
Department Of Electronics And Information Systems Osaka University
-
Tsujii Hirohiko
Research Center For Charged Particle Therapy National Institute Of Radiological Sciences
-
竹内 光明
JSTイノベーションプラザ京都
-
竹内 光明
独立行政法人科学技術振興機構イノベーションプラザ京都
-
後藤 康仁
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
Hirama Toshiyasu
Research Center For Charged Particle Therapy National Institute Of Radiological Sciences
-
Tsujii Hirohiko
バングラデシュ
-
Tsujii Hirohiko
Division Of Radiation Medicine National Institute Fo Radiological Sciences
-
木本 恒暢
京都大学大学院工学研究科
-
木本 恒暢
京大
-
辻 博司
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
-
石川 順三
京都大学大学院工学研究科
-
辻 博司
京都大学大学院工学研究科
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