Binary-Solvent Developer for Cross-Linked Positive-Tone Resists
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概要
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A new binary-solvent developer has been developed for a cross-linked positive-tone resist called suppressed aggregate extraction development (SAGEX) resist. It is composed of a good solvent and a poor solvent that does not produce swelling in the resist polymer. Hydrocarbon, such as n-hexane, was used as a poor solvent in this study because alcohol, which is conventionally used as a poor solvent, was not effective. A hydrocarbon, which causes little swelling of the base polymer, reduces the dissolution of lightly exposed SAGEX resist in a good solvent. As a result, with this developer, a high contrast can be obtained and resist residue can be eliminated at the same time. In addition, this developer has been shown to be effective in reducing resist roughness; that is, it helps reduce the line-edge roughness of resist patterns to 1 nm or less.
- 社団法人応用物理学会の論文
- 2002-06-30
著者
-
Yamaguchi Toru
Ntt Basic Research Laboratories Ntt Corporation
-
NAMATSU Hideo
NTT Basic Research Laboratories
-
Namatsu H
Ntt Corp. Kanagawa Jpn
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