高速化量子分子動力学法によるシリコンプラズマ酸化過程の検討
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
半導体デバイスの高集積化に伴い、シリコンMOSデバイスのゲート絶縁膜として使用される酸化膜の薄膜化が進められている。しかし、熱酸化のような高温プロセスにおいては格子欠陥、不純物の再拡散、熱応力の発生など、高温プロセスに由来する現象が問題となり、低温プロセスの確率が必要とされている。そのため、従来の熱酸化に比べて低温での酸化膜形成が可能なプラズマ酸化が検討されている。そこで、本研究では高速化量子分子動力学法を用いて、シリコンプラズマ酸化の初期過程について検討を行った。
- 社団法人電子情報通信学会の論文
- 2001-10-09
著者
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
宮本 明
東北大学大学院 工学研究科
-
高見 誠一
東北大学大学院工学研究科
-
鈴木 研
東北大学大学院工学研究科附属エネルギー安全科学国際研究センター
-
篠田 克己
東北大学大学院工学研究科
-
横須賀 俊之
東北大学大学院工学研究科
-
今村 詮
広島国際学院大学工学部
-
今村 詮
広島国際学院大学
-
久保 百司
東北大学大学院工学研究科
-
黒川 仁
東北大学大学院工学研究科材料化学専攻
-
鈴木 研
東北大学大学院工学研究科
-
黒川 仁
東北大学大学院工学研究科
関連論文
- 三次元多孔質構造に基づく色素増感TiO_2電極の電子移動シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- ナノスケルトン創製のための実験融合計算化学によるマルチスケールシミュレーション
- ナノスケルトン創製におけるマランゴニ対流の影響解析
- Theoretic Study of Electronic and Electrical Properties for Nano-Structural ZnO
- 半導体材料の電気伝導度に関する計算化学的検討
- 量子化学計算とQSPR法とによるEu^付活蛍光体の発光ピーク波長予測(プロセス科学と新プロセス技術)
- 自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面酸窒化シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- ルミネッセンス計算化学による共役系高分子中のキャリア移動の解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコン表面の化学反応性に関する量子化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 発光材料の構造とキャリア移動特性に関する計算化学的解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- 色素増感型太陽電池のためのマルチスケールシミュレータの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- その他の分野
- プラズマディスプレイ用電極保護膜の高性能化に向けた計算機シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学手法によるダイヤモンドライクカーボン(DLC)の摩擦特性・微細構造の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 量子分子動力学法によるダイヤモンドライクカーボン膜生成過程の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- 新規計算化学手法を用いたDLCの摩擦特性解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算
- ドーパント導入によるPDP用MgO保護膜の安定性の効果に関する計算科学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の水素終端処理プロセスに関する計算化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- シリコン表面の高速化量子分子動力学法による大規模電子状態計算(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- プラズマディスプレイ用MgO保護膜の劣化プロセスの解明と理論設計(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 自己阻害型p47^の活性化機構に関する分子シミュレーション
- 希土類蛍光体の理論設計のための新規計算手法の開発と青色蛍光体BaMgAl_O_:Eu^の電子状態計算への応用
- 各種担持貴金属触媒における貴金属安定性及び反応性に関する量子化学的検討
- シリコン表面への低エネルギーボロン注入プロセスに関する計算化学的検討(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 大規模量子化学計算による担持貴金属触媒における担体効果の解明
- 計算化学によるプラズマディスプレイ用電極保護膜材料の二次電子放出特性評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 超高速化量子分子動力学法に基づく構造解析・分光シミュレータの開発とシリコン半導体への応用(プロセス科学と新プロセス技術)
- 実験との融合を指向した計算化学手法による蛍光体の構造解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学によるプラズマディスプレイ用MgO保護膜の電子放出特性の評価(プロセス科学と新プロセス技術)
- 分子動力学法によるMgOの力学的物性予測(プロセス科学と新プロセス技術)
- 希土類系材料に対する電子数拘束アルゴリズムの開発と量子分子動力学計算への応用
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- マルチスケールトンネル電流シミュレータの開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- プラズマディスプレイ用MgO保護膜の構造破壊ダイナミクスと理論設計(プロセス科学と新プロセス技術)
- 三次元多孔質シミュレータの固体酸化物燃料電池燃料極微細構造最適化への応用と燃料極性能指数の提案
- 計算化学の応用展開
- マルチスケール配線寿命予測シミュレータの開発とCu配線への応用(プロセス科学と新プロセス技術)
- ペロブスカイト型BaTiO_3の誘電特性解析のための超高速化量子分子動力学法の開発(プロセス科学と新プロセス技術)
- 固体高分子形燃料電池触媒層に対するマルチスケール計算化学アプローチ
- 触媒表面ダイナミクス解析を目的とした超高速化量子分子動力学法の開発
- 複数成分を扱える自動車触媒の経時劣化特性シミュレータの開発と応用
- 不規則性多孔体微細構造最適化のための三次元多孔質シミュレータPOCO^2の開発と応用
- 産業革新のための実践的コンピュータ化学 : 触媒研究への応用
- 高速化量子分子動力学プログラム Colors の希土類への展開
- Tight-Binding Quantum Chemistry Study on Excitation Properties of Perylene with Acrylic Acid on Anatase (001) Surface
- SCF-Tight-Binding 量子分子動力学計算プログラム Colors の開発とマルチフィジックス現象ダイナミクスへの応用
- 膜プロセスシミュレーションのための新規プログラムの開発およびその応用
- コンピューターシミュレーションで見るナノスペースでの分子挙動
- コンピュータ化学による環境保全・汚染物質の除去技術
- ゼオライト外表面の特異的なポテンシャル場と分子の動き
- 無機膜の微細孔を利用した気体選択分離に関する分子論的研究
- 低湿度雰囲気における液晶表示装置向け高温ポリシリコン用ガラス表面への水分吸着量
- 41485 低湿度雰囲気における高温ポリシリコン用ガラス表面への吸着水分量の検討(化学物質汚染低減効果の評価, 環境工学II)
- 大規模複雑系材料のための新規電気伝導度推算手法の開発と各種触媒材料への応用
- 電気伝導度推算シミュレータの各種半導体デバイス材料への応用およびWiedemann-Franz則による熱伝導度推算手法の開発
- 光励起反応ダイナミクスの解明を可能とする高速化量子分子動力学プログラムの開発
- 分子シミュレーション工学
- 鼻薬の理論
- ナノ構造における電気伝導度の評価方法の提案
- CMPプロセス解析のための新規プログラムの開発
- 電場下での電子状態ダイナミックスシミュレーションを可能とする高速化量子分子動力学法の開発
- 高速化量子分子動力学法を用いた超・亜臨界場における化学反応の解明
- 高速化量子分子動力学法のプラズマ反応ダイナミクス解析への応用
- 金属、合金への水素吸蔵に関するシミュレーションのためのモンテカルロ計算プログラムの開発
- 膜分離シミュレーション用プログラムの開発とゼオライト膜による気体分離への応用
- 電極/電解液界面の大規模シミュレーションを可能とする高速化量子分子動力学法の開発
- 触媒設計のための「鼻薬の理論」構築
- トライボロジー現象解析のための新規プログラムの開発
- 高速化量子分子動力学法による粒子の生成・成長過程のシミュレーション
- コンビナトリアル計算化学
- Ziegler-Natta触媒を用いたプロピレン重合反応の分子動力学的検討
- エレクトロニクス材料の結晶成長シミュレーション
- Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Study on Interfacial Electron Transfer in Dye-Sensitized Anatase (001) Surface
- Development of Multi-Scale Electrical Conductivity Simulator with the Joule Heating Module and its Application to Polycrystalline SiO_2
- Influence of Chemical Topology on the Electrical Properties of Carbon Black-A Theoretical Study
- 高速化量子分子動力学法に基づく電気伝導特性推算法の開発とシリコン材料への応用(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 自動化超高速化量子分子動力学法の開発とシリコン酸化膜形成の反応解析への応用(プロセス科学と新プロセス技術)
- 計算化学によるSi/SiC量子ドット太陽電池におけるキャリアトラップの解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- 自動化超高速化量子分子動力学法によるシリコン表面のドライ・ウェットおよびラジカル酸化反応シミュレーション(プロセス科学と新プロセス技術)
- ルミネッセンス計算化学による高分子発光材料/陰極界面の電子移動解析(プロセス科学と新プロセス技術)
- シリコンプラズマ酸化過程の Tight-binding 分子動力学シミュレーション
- NF_3とSi基板の相互作用:密度汎関数法による検討
- Tight-binding分子動力学法を用いたSi表面の酸化過程におけるSiOの脱離挙動
- 材料情報学による母体結晶からのEu^付活蛍光体の発光特性予測(プロセス科学と新プロセス技術)
- Theoretical Investigation on the Syndiospecific Polymerization of Styrene by Group 3 (Sc and Y) Half-metallocene Catalysts
- 高速化量子分子動力学法によるアナターゼ型TiO_2のキャリア移動度の予測
- 分子シミュレーションによるSiウェハ表面状態と分子衝突速度の吸着挙動に与える影響
- ハイブリッド量子分子動力学による低エネルギーボロン注入ダイナミクスの解明(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- ハイブリッド量子分子動力学法を用いたアモルファスシリコン基板へのドーピングプロセスの解析(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 低エネルギーSi,Geビーム照射によるシリコン表面極浅領域のアモルファス化シミュレーション(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 自動化超高速化量子分子動力学法の開発とシリコン表面のドライ・ウェットおよびラジカル酸化反応シミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- 大規模系反応シミュレーションを目的とした時間発展加速化分子動力学法の開発
- シリコン表面への低エネルギーボロン注入プロセスに関する計算化学的検討
- 電場下でのダイナミックス計算を可能とする高速化量子分子動力学法の開発と応用
- 電場下でのダイナミツクス計算を可能とする高速化量子分子動力学法の開発と応用(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
- 高速化量子分子動力学法の電気・電子分野への応用
- 高速化量子分子動力学法によるSiGeのバンド構造解析