CZシリコン中の酸素の挙動 : 融液成長と蒸着膜
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概要
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- 日本結晶成長学会の論文
- 1976-06-25
著者
-
香田 拡樹
NTT LSI研究所
-
井上 直久
NTT LSI研究所
-
井上 直久
大阪府大
-
井上 直久
電々公社・武蔵野通研
-
大阪 次郎
電々公社・武蔵野通研
-
篠山 誠二
電々公社・武蔵野通研
-
香田 拡樹
電々公社・武蔵野通研
-
大阪 次郎
Ntt Lsi研
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