井上 直久 | 電々公社・武蔵野通研
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概要
関連著者
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井上 直久
電々公社・武蔵野通研
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井上 直久
日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所
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井上 直久
日本電信電話 (株) LSI研究所
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香田 拡樹
NTT LSI研究所
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井上 直久
NTT LSI研究所
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井上 直久
大阪府大
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大阪 次郎
電々公社・武蔵野通研
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篠山 誠二
電々公社・武蔵野通研
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香田 拡樹
電々公社・武蔵野通研
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今村 義宏
日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所
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峯岸 一茂
日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所
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広田 昭一
電々公社・武蔵野通研
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大阪 次郎
Ntt Lsi研
著作論文
- CZシリコン中の酸素の挙動 : 融液成長と蒸着膜
- SEMによるSOS膜構造の観察
- 分子線成長法による原子層の成長制御 (原子層制御から原子制御へ)
- CZシリコン単結晶の微小欠陥
- CZシリコン中の微小欠陥のTEM観察 : 融液成長と蒸着膜
- 4. 分子線成長法による原子層の成長制御