4. 分子線成長法による原子層の成長制御

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概要

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• Recent advancements in molecular beam epitaxy are reviewed with special emphasis on the control down to a monolayer. Extensive studies have succeeded in shedding light on atomic scale growth mechanisms, which enabled the development of novel growth technologies. Though submicron scale terraces are now realized, much effort is still necessary for meeting the requirements from advanced quantum effect devices.

• 日本結晶学会の論文

著者

• 井上 直久

  電々公社・武蔵野通研

• 井上 直久

  日本電信電話公社 武蔵野電気通信研究所

• 井上 直久

  日本電信電話 (株) LSI研究所

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