30p-J-4 CZシリコン中の酸素ドナー形成モデル
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概要
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- 社団法人日本物理学会の論文
- 1980-03-12
著者
-
大坂 次郎
Nttフォトニクス研究所
-
井上 直久
NTT LSI研究所
-
和田 一実
マサチューセッツ工科大
-
井上 直久
大阪府大
-
大坂 次郎
電電公社 武蔵野研究所
-
和田 一実
電電公社 武蔵野研究所
-
井上 直久
電電公社 武蔵野研究所
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