澤田 英敬 | Jst-cresta:日本電子

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概要

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関連著者

• 澤田 英敬

  Jst-cresta:日本電子

• 沢田 英敏

  Jst-ceest:日本電子

• 高柳 邦夫

  東工大院理工

• 高柳 邦夫

  東工大理工

• 近藤 行人

  Jst-crest:日本電子

• 高柳 邦夫

  東京工業大学

• 沢田 英敬

  Jst-crest:日本電子

• 沢田 英敬

  東大工

• 田中 崇之

  東工大院理工

• 田中 崇之

  東工大院理工:jst-crest

• 田中 崇之

  東工大院総理工:東工大院理工

• 田中 崇之

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 高柳 邦夫

  東京工業大学・大学院理工学研究科・物性物理学専攻

• 高柳 邦夫

  東工大

• 高柳 邦夫

  東京工業大学物性物理学専攻

• 佐野 健太郎

  東工大院理工

• 近藤 行人

  JST-CREST

• 細川 史生

  日本電子株式会社

• 細川 史生

  Jst-crest:日本電子

• 沢田 英敬

  JST-CREST

• 奥西 栄治

  日本電子:jst-crest

• 谷城 康眞

  東工大院総合理工

• 谷城 康眞

  東京工業大学大学院理工学研究科

• 高柳 邦夫

  東工大理

• 高柳 邦夫

  東工大総理工

• 高柳 邦夫

  東工大 総理工

• 谷城 康眞

  東工大院理工:jst-crest

• 沢田 英敬

  日本電子(株)

• 近藤 行人

  日本電子

• 高柳 邦夫

  東工大院総合理工

• 谷城 康眞

  東工大院理工

• 奥西 栄治

  日本電子(株)

• 大島 義文

  東工大総理工

• 大島 義文

  東工大 総理工

• 安藤 雅文

  東工大院理工

• 奥西 栄治

  日本電子

• 近藤 行人

  日本電子株式会社電子光学機器本部

• 細川 史生

  日本電子(株)

• 細川 史生

  日本電子

• 安部 悠介

  東工大院理工

• 炭屋 亜美

  東工大院総合理工

• 橋川 直人

  ルネサステクノロジ

• 大島 義文

  JST-CREST

• 澤田 英敬

  JST-CRESTA

• 朝山 匡一郎

  東工大院理工

• 細川 史生

  JST-CEEST

• 澤田 英敬

  Jst-crest:日本電子

• 橋川 直人

  日本電子

• 神保 雄

  東工大院理工

• 李 少淵

  東工大

• 李 少淵

  東工大院総合理工

• 大島 義文

  阪大電顕センター

• 山崎 順

  名大エコトピア研

• 三宅 秀人

  三重大学大学院工学研究科

• 橋本 豊

  東工大

• 三宅 秀人

  三重大工

• 細川 史夫

  JST-CREST

• 竹口 雅樹

  物質・材料研究機構

• 朝山 匡一郎

  ルネサステクノロジ

• 谷城 康眞

  JST-CREST

• 高柳 邦夫

  JST-CREST

• 谷城 康眞

  東工大院

• 田中 信夫

  名大理工総研

• 三宅 秀人

  三重大

• 三宅 秀人

  三重大学 工学部

• 山崎 順

  名大理工総研

• 澤田 英敬

  日本電子(株)

• 富田 健

  日本電子(株)

• 富田 健

  日本電子株式会社

• 竹下 茜

  東工大院総理工

• 日比野 紘大

  東工大院理工

• 久保田 忠弘

  本田技研

• 大島 義文

  東工大院総理工

• 中山 佳子

  Nims

• 竹口 雅樹

  Nims

• 竹口 雅樹

  物質・材料研究機構 超高圧電子顕微鏡ステーション

• 竹口 雅樹

  (独)物質・材料研究機構 ナノ計測センター

• 金 スヒョン

  東工大院理工

• 金 秀鉉

  東工大院理工

• 奥西 栄治

  JST-CEEST

• 沢田 英敬

  JS-CREST

• 細川 史生

  JS-CREST

• 近藤 行人

  JS-CREST

• 三宅 秀人

  三重大学

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著作論文

• 21pGP-9 宙づり単層及び二層グラフェンの長周期構造直接観察(21pGP グラフェン(成長と評価),領域7(分子性固体・有機導体))
• 21pPSA-16 ガス導入(O_2,N_2)によるAu/TiO_2の構造変化の観察(21pPSA 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 20aHT-5 収差補正STEMによる単原子観察とZコントラストイメージング(20aHT 領域10 格子欠陥・ナノ構造(水素,ナノ粒子,金属),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 23pGP-5 電子線非照射下のガス導入による金ナノ粒子/ルチルの構造変化の観察(23pGP ナノ構造・局所光学現象,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 28aYG-6 球面収差補正TEM法によるグラフェン単原子直接観察(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 26aYK-13 収差補正走査型透過電子顕微鏡法によるシリコン結晶中ヒ素ドーパントの検出(X線・粒子線(電子線),領域10,誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン物性)
• 28aYH-4 球面収差補正TEM及びEELSによるグラフェン観察(28aYH 領域7,領域9合同 グラフェン構造・表面物性,領域7(分子性固体・有機導体))
• 22pXB-8 球面収差補正 TEM によるシリコン界面の原子直視観察
• 25pWZ-3 Si結晶中Sbドーパント不活性クラスター構造(25pWZ X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
• 25pWZ-1 CuInSe_2結晶の欠陥のSTEM観察(25pWZ X線・粒子線(電子線),領域10(誘電体格子欠陥,X線・粒子線フォノン))
• 25aWS-7 O_2導入によって形成されるAu/TiO_2界面のピラー構造のTEM観察(25aWS 表面界面構造(金属・酸化物),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 25pYG-1 酸素導入による金ナノ粒子/ルチルの界面の状態変化(ナノ構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 29pPSB-27 ガス導入TEMホルダーによるAu/TiO_2触媒のその場観察II(29pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 29pTE-8 ガス雰囲気中その場観察TEM法による金ナノ粒子/ルチルの構造変化の観察(29pTE 微粒子・クラスタ,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22aXB-1 収差補正TEM法による金ナノ粒子/ルチルの界面構造の差異の観察(22aXB 微粒子・クラスタ,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 23aTD-8 収差補正TEM法による酸素原子を含む金ナノ粒子/ルチルの界面構造の観察(表面ナノ構造量子物性,微粒子クラスタ,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 極限の分解能を実現するTEMおよびSTEM (特集 最先端の電子顕微鏡技術と応用展開)
• 24aPS-37 Si結晶の高角度入射-STEM像の定量解析(24aPS 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 21aXJ-3 金ナノ粒子/ルチル界面の酸素原子カラムの観察(表面界面構造,領域9,表面・界面,結晶成長)
• 22pPSB-20 収差補正STEMによる単原子観察(22pPSB 領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
• 27pTN-12 LiV2O4結晶の環状明視野像におけるリチウムカラム強度解析(27pTN X線・粒子線(陽電子・電子線),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))
• 21aJA-10 環状明視野像メカニズムの解明(21aJA X線・粒子線(電子線・陽電子),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

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