一村 信吾 | 産業技術総合研究所
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概要
関連著者
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一村 信吾
産業技術総合研究所
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一村 信吾
工業技術院電子技術総合研究所 極阪技術部
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一村 信吾
産業技術総合研
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一村 信吾
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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一村 信吾
電子技術総合研究所極限技術部
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野中 秀彦
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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野中 秀彦
産業技術総合研究所
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一村 信吾
電子技術総合研究所
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西口 哲也
株式会社 明電舎
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黒河 明
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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黒河 明
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
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森川 良樹
株式会社 明電舎
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亀田 直人
株式会社 明電舎
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花倉 満
株式会社 明電舎
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西口 哲也
株式会社明電舎
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所
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塚原 園子
産業技術総合研究所
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森川 良樹
株式会社明電舎
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塚原 園子
日本真空技術 筑波超材研
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所地質情報研究部門
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塚原 園子
アルバックテクノ(株)ケミカルセンター
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鈴木 淳
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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井藤 浩志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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吉原 一紘
物質・材料研究機構 ナノマテリアル研究所
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中村 健
産業技術総合研究所
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戸坂 亜希
独立行政法人産業技術総合研究所
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斎藤 一也
(株)アルバック筑波超材料研究所
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田沼 繁夫
ジャパンエナジー分析センター
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藤本 俊幸
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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斉藤 一也
日本真空技術 筑波超材研
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国分 清秀
電子技術総合研究所
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国分 清秀
電総研
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田沼 繁夫
独立行政法人物質・材料研究機構
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田中 彰博
アルバック・ファイ株式会社
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鈴木 淳
産業技術総合研究所
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亀田 直人
株式会社明電舎
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花倉 満
株式会社明電舎
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西口 哲也
独立行政法人産業技術総合研究所
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野中 秀彦
独立行政法人産業技術総合研究所
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一村 信吾
独立行政法人産業技術総合研究所
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渡辺 幸次
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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藤原 幸雄
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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近藤 貢二
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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平田 正鉱
電子技術総合研究所
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北條 久男
バキュームプロダクツ株式会社
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池田 佳直
日本真空(株)筑波超材研
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一村 信吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
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祐延 悟
函館工業高等専門学校機械工学科
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田中 彰博
アルバック・ファイ(株)
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茂里 康
産業技術総合研究所 人間系特別研究体
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浦野 俊夫
神戸大学工学部
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吉原 一紘
金属材料技術研究所
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村上 寛
産業技術総合研究所
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村上 寛
電子技術総合研究所
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斎藤 一也
日本真空技術株式会社
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荒井 和雄
産業技術総合研究所
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溝田 武志
新技団
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牛山 智晴
産業技術総合研究所
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花倉 満
(株)明電舎基盤技術研究所
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安達 和広
産業技術総合研究所
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大久保 雅隆
産業技術総合研究所
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浮辺 雅宏
産業技術総合研究所
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大久保 雅隆
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
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二瓶 好正
東京理科大学
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藤本 俊幸
産業技術総合研究所
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佐藤 仁美
アルバック・ファイ
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城 昌利
電子技術総合研究所
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久志野 彰寛
旭川工業高等専門学校一般理数科
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城 昌利
電総研
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久志野 彰寛
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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溝田 武志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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絹見 朋也
産業技術総合研究所ヒューマンストレスシグナル研究センター
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斉藤 一也
日本真空(株)筑波超材研
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瀬戸 政宏
産業技術総合研
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瀬戸 政宏
産業技術総合研究所
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福田 憲司
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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小杉 亮治
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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塚原 園子
日本真空技術(株)
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福田 憲司
産業技術総合研究所
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茂里 康
(独)産業技術総合研究所セルエンジニアリング研究部門
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浮辺 雅宏
産総研
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佐藤 陽亮
東京理科大学理工学部
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平田 正紘
電子技術総合研究所
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池田 佳直
日本真空技術株式会社筑波超材料研究所
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富田 充裕
株式会社東芝研究開発センター
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亀山 育也
電子技術総合研究所
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祐延 悟
株式会社東芝
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中村 健
電子技術総合研究所
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野中 秀彦
電子技術総合研究所
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斉藤 茂
株式会社 明電舎
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斉藤 茂
株式会社明電舎
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亀田 直人
産業技術総合研究所
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西口 哲也
産業技術総合研究所
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小杉 亮治
産業技術総合研究所
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祐延 悟
(株)東芝
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寺西 義一
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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西口 哲也
(株)明電舎
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野寄 剛示
(株)明電舎
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森川 良樹
(株)明電舎
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小林 太吉
ブイピイアイ(株)
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北條 久男
パキュームプロダクツ株式会社
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井藤 浩志
電子技術総合研究所
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宮本 正春
株式会社明電舎材料・デバイス研究部
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塚原 園子
日本真空(株)筑波超材研
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絹見 朋也
(独)産業技術総合研究所 ヒューマンストレスシグナル研究センター
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二瓶 好正
東京理科大学理工学部
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田沼 繁夫
(株)ジャパンエナジー分析センター
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浮辺 雅宏
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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野寄 剛示
明電舎 総研
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福田 憲司
産業技術総合研
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塚原 園子
日本真空技術
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田沼 繁夫
物質・材料研究機構
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斎藤 一也
日本真空技術 (株) 超材料研究所
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田中 彰博
アルバック・ファイ (株)
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井藤 浩志
産業技術総合研究所
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小杉 亮治
産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
著作論文
- キャピラリーによるイオンビームの収束
- 2種類の圧力測定子を用いた水素漏洩検知
- 二成分濃度測定法における温度・湿度の影響
- 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価
- 金属クラスター錯体イオンビームの発生とその応用
- 実用電子分光法講座 第一回講義メモ(1993.2.4) (特集:VAMAS-SCA Japan復刻版(1989,1994)) -- (実用電子分光法講座(1994年1月))
- XPSにおて発生分布の非対称に与える弾性散乱効果の検討
- 超伝導検出器を搭載した飛行時間質量分析器の開発
- 高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価
- 真空における"極"の追究
- 高純度オゾンビームを用いたシリコン極薄酸化膜の形成と評価
- 小型マイクロ波イオン源のオゾンによる動作特性
- 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
- 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
- UV光励起オゾンを用いたポリシリコンの低温酸化
- オゾン濃度その場測定によるUV光励起オゾン低温酸化プロセス中のO(^1D)の時間分布の解析
- オゾン光解離励起状態酸素原子によるシリコン低温酸化
- 産業技術総合研究所におけるテニュアトラック制度 : 現状と今後の問題点(話題)
- 極高真空用材料の真空特性
- ナノテクノロジー計量計測における国際標準化
- 高濃度オゾンガスの局所リアルタイム濃度測定法の開発
- 有機シリコンガスと高濃度オゾンガスの交互供給による300℃以下でのSiO_2絶縁膜作成
- 2種類の圧力計による大気圧O_2/O_3混合ガスのO_3濃度計測
- 強磁性体を用いたトンネル接合型電子源の作成
- 遷移金属の酸化還元反応を用いた新しいオゾン分解法
- 水晶摩擦真空計を用いた2成分混合気体の濃度計測
- 圧力計測・校正用極高真空装置の試作とそのガス放出特性
- 第二高調波発生(SHG)によるシリコン表面の信号検出深さ
- XHV '94会議報告
- 総論
- 表面評価方法と評価装置の現状
- 超高/極高真空の実現と計測技術
- 表面分析における最近の進展
- 9th International Conference on Quantitative Surface Analysis "QSA-9"参加報告
- 第9回定量表面分析国際会議(9th International Conference on Quantitative Surface Analysis)報告
- レーザーイオン化
- AESの結果は信用できるか? (表面,界面分析の工業的応用)