森川 良樹 | 株式会社 明電舎
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概要
関連著者
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西口 哲也
株式会社 明電舎
-
森川 良樹
株式会社 明電舎
-
花倉 満
株式会社 明電舎
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野中 秀彦
産業技術総合研究所
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一村 信吾
産業技術総合研
-
野中 秀彦
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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一村 信吾
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
一村 信吾
産業技術総合研究所
-
一村 信吾
工業技術院電子技術総合研究所 極阪技術部
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亀田 直人
株式会社 明電舎
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宮本 正春
株式会社明電舎材料・デバイス研究部
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西口 哲也
株式会社明電舎
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森川 良樹
株式会社明電舎
-
亀田 直人
株式会社明電舎
-
花倉 満
株式会社明電舎
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斉藤 茂
株式会社 明電舎
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森川 良樹
明電舎材料デバイス研究部
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西口 哲也
明電舎材料デバイス研究部
-
宮本 正春
明電舎材料デバイス研究部
-
村上 寛
産総研
-
黒河 明
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
村上 寛
電子技術総合研究所
-
牛山 智晴
産業技術総合研究所
-
花倉 満
(株)明電舎基盤技術研究所
-
一村 信吾
電子技術総合研究所
-
野中 秀彦
電子技術総合研究所
-
川田 正国
工業技術院電子技術総合研究所極限技術部
-
斉藤 茂
株式会社明電舎
-
野中 秀彦
工業技術院電子技術総合研究所極限技術部
-
村上 寛
工業技術院電子技術総合研究所極限技術部
-
西口 哲也
(株)明電舎
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野寄 剛示
(株)明電舎
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森川 良樹
(株)明電舎
-
野寄 剛示
明電舎 総研
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黒河 明
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
著作論文
- 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価
- 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
- 高純度オゾン雰囲気中への紫外照射による化学気相堆積法(CVD)SiO_2膜の改質
- 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
- UV光励起オゾンを用いたポリシリコンの低温酸化
- 大容量型高純度オゾンビーム発生装置
- 有機シリコンガスと高濃度オゾンガスの交互供給による300℃以下でのSiO_2絶縁膜作成
- 遷移金属の酸化還元反応を用いた新しいオゾン分解法
- オゾンビームの運動量制御
- 高純度液体オゾン製造装置の開発 (材料/デバイス・機器特集) -- (デバイス・機器)
- ピュアオゾンジェネレータの新展開 (情報・通信特集) -- (産業用コンポーネント)
- 高純度オゾン酸化技術 (〔明電舎〕総合研究所特集)
- ピュアオゾンジェネレータ (電子機器・情報機器特集) -- (単体コンポーネント製品)