亀田 直人 | 株式会社 明電舎

スポンサーリンク

概要

• 亀田 直人の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 株式会社 明電舎の論文著者

関連著者

• 亀田 直人

  株式会社 明電舎

• 西口 哲也

  株式会社 明電舎

• 野中 秀彦

  産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門

• 花倉 満

  株式会社 明電舎

• 野中 秀彦

  産業技術総合研究所

• 一村 信吾

  産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門

• 森川 良樹

  株式会社 明電舎

• 一村 信吾

  産業技術総合研究所

• 一村 信吾

  産業技術総合研

• 一村 信吾

  工業技術院電子技術総合研究所 極阪技術部

• 斉藤 茂

  株式会社 明電舎

• 亀田 直人

  株式会社明電舎

• 西口 哲也

  株式会社明電舎

• 森川 良樹

  株式会社明電舎

• 花倉 満

  株式会社明電舎

• 中村 健

  産業技術総合研究所

• 牛山 智晴

  産業技術総合研究所

• 斉藤 茂

  株式会社明電舎

• 亀田 直人

  産業技術総合研究所

• 西口 哲也

  産業技術総合研究所

もっと見る 閉じる

著作論文

• 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価
• 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
• 高純度オゾン雰囲気中への紫外照射による化学気相堆積法(CVD)SiO_2膜の改質
• 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
• 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
• ピュアオゾンジェネレータ(MPOG)によるTFT用ポリシリコン半導体酸化
• UV光励起オゾンを用いたポリシリコンの低温酸化
• 材料応用 ピュアオゾンジェネレータによるシリコン絶縁膜作製 (材料技術特集)

スポンサーリンク