一村 信吾 | 産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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概要
関連著者
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一村 信吾
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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一村 信吾
産業技術総合研
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一村 信吾
産業技術総合研究所
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野中 秀彦
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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野中 秀彦
産業技術総合研究所
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一村 信吾
工業技術院電子技術総合研究所 極阪技術部
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黒河 明
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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西口 哲也
株式会社 明電舎
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黒河 明
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
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森川 良樹
株式会社 明電舎
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亀田 直人
株式会社 明電舎
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花倉 満
株式会社 明電舎
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所
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一村 信吾
産業技術総合研究所・極微プロファイル計測研究ラボ
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西口 哲也
株式会社明電舎
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一村 信吾
産業技術総合研究所極微プロファイル計測研究ラボ
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所地質情報研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
藤本 俊幸
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所
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森川 良樹
株式会社明電舎
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藤原 幸雄
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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井藤 浩志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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戸坂 亜希
独立行政法人産業技術総合研究所
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藤本 俊幸
産業技術総合研究所
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富田 充裕
株式会社東芝研究開発センター
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亀田 直人
株式会社明電舎
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花倉 満
株式会社明電舎
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西口 哲也
独立行政法人産業技術総合研究所
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野中 秀彦
独立行政法人産業技術総合研究所
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一村 信吾
独立行政法人産業技術総合研究所
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渡辺 幸次
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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近藤 貢二
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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北條 久男
バキュームプロダクツ株式会社
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一村 信吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
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井藤 浩志
産業技術総合研究所
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茂里 康
産業技術総合研究所 人間系特別研究体
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吉村 雅満
豊田工業大学ナノハイテク研究センター
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吉村 雅満
豊田工業大学
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中村 健
産業技術総合研究所
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荒井 和雄
産業技術総合研究所
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溝田 武志
新技団
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牛山 智晴
産業技術総合研究所
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横川 清志
中工研
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花倉 満
(株)明電舎基盤技術研究所
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安達 和広
産業技術総合研究所
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大久保 雅隆
産業技術総合研究所
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浮辺 雅宏
産業技術総合研究所
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大久保 雅隆
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
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二瓶 好正
東京理科大学
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久志野 彰寛
旭川工業高等専門学校一般理数科
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久志野 彰寛
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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溝田 武志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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絹見 朋也
産業技術総合研究所ヒューマンストレスシグナル研究センター
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瀬戸 政宏
産業技術総合研
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瀬戸 政宏
産業技術総合研究所
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福田 憲司
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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小杉 亮治
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
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塚原 園子
産業技術総合研究所
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福田 憲司
産業技術総合研究所
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茂里 康
(独)産業技術総合研究所セルエンジニアリング研究部門
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浮辺 雅宏
産総研
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佐藤 陽亮
東京理科大学理工学部
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一村 信吾
産業技術総合研究所 計測フロンティア研究部門
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一村 信吾
電子技術総合研究所極限技術部
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横川 清志
独立行政法人産業技術総合研究所水素材料先端科学研究センター
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斉藤 茂
株式会社 明電舎
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斉藤 茂
株式会社明電舎
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亀田 直人
産業技術総合研究所
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西口 哲也
産業技術総合研究所
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小杉 亮治
産業技術総合研究所
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寺西 義一
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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西口 哲也
(株)明電舎
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野寄 剛示
(株)明電舎
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森川 良樹
(株)明電舎
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小林 太吉
ブイピイアイ(株)
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北條 久男
パキュームプロダクツ株式会社
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宮本 正春
株式会社明電舎材料・デバイス研究部
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絹見 朋也
(独)産業技術総合研究所 ヒューマンストレスシグナル研究センター
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二瓶 好正
東京理科大学理工学部
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安 白
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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文 矛
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
福山 誠司
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
横川 清志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
安 白
中国工業技術研究所生産基礎技術部材料物性研究室
-
横川 清志
産業技術総合研 基礎素材研究部門
-
福山 誠司
独立行政法人産業技術総合研究所水素材料先端科学研究センター
-
文 矛
新エネルギー・産業技術総合開発機構(産業技術総合研究所)
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浮辺 雅宏
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
野寄 剛示
明電舎 総研
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塚原 園子
日本真空技術 筑波超材研
-
福田 憲司
産業技術総合研
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文 矛
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
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小杉 亮治
産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
著作論文
- キャピラリーによるイオンビームの収束
- 2種類の圧力測定子を用いた水素漏洩検知
- 二成分濃度測定法における温度・湿度の影響
- 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価
- 金属クラスター錯体イオンビームの発生とその応用
- 超伝導検出器を搭載した飛行時間質量分析器の開発
- 高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価
- 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
- 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
- UV光励起オゾンを用いたポリシリコンの低温酸化
- オゾン濃度その場測定によるUV光励起オゾン低温酸化プロセス中のO(^1D)の時間分布の解析
- オゾン光解離励起状態酸素原子によるシリコン低温酸化
- 産業技術総合研究所におけるテニュアトラック制度 : 現状と今後の問題点(話題)
- ナノテクノロジー計量計測における国際標準化
- 高濃度オゾンガスの局所リアルタイム濃度測定法の開発
- 有機シリコンガスと高濃度オゾンガスの交互供給による300℃以下でのSiO_2絶縁膜作成
- 2種類の圧力計による大気圧O_2/O_3混合ガスのO_3濃度計測
- 遷移金属の酸化還元反応を用いた新しいオゾン分解法
- 水晶摩擦真空計を用いた2成分混合気体の濃度計測
- 新しい低温酸化プロセスの開発 (特集 新世代を拓くプロセス技術)
- 高品位シリコン酸化膜のオゾンによる低温作製技術 (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)
- 走査型トンネル顕微鏡を用いたNb(100)表面への酸素および水素吸着の解析
- 電子分光法による絶縁物の表面分析と帯電現象
- 金属クラスター錯体イオンビームの特性と二次イオン質量分析(SIMS)への応用
- 表面科学分野から研究機器開発への挑戦を
- 表面分析の進展と化学工業との接点
- オージェ電子分光法の最近の進展