野中 秀彦 | 産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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概要
関連著者
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野中 秀彦
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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野中 秀彦
産業技術総合研究所
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一村 信吾
産業技術総合研
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一村 信吾
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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一村 信吾
産業技術総合研究所
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一村 信吾
工業技術院電子技術総合研究所 極阪技術部
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西口 哲也
株式会社 明電舎
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鈴木 淳
産業技術総合研究所地質情報研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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黒河 明
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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鈴木 淳
産業技術総合研究所
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野中 秀彦
産業技術総合研究所計測フロティンア研究部門
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森川 良樹
株式会社 明電舎
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黒河 明
産業技術総合研 計測フロンティア研究部門
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亀田 直人
株式会社 明電舎
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花倉 満
株式会社 明電舎
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西口 哲也
株式会社明電舎
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井藤 浩志
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所
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藤本 俊幸
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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森川 良樹
株式会社明電舎
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藤原 幸雄
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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齋藤 直昭
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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間瀬 一彦
高エネルギー加速器研究機構物質構造科学研究所
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戸坂 亜希
独立行政法人産業技術総合研究所
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秋道 斉
産業技術総合研究所計測標準研究部門
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佐藤 弘悦
日本真空協会
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藤本 俊幸
産業技術総合研究所
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富田 充裕
株式会社東芝研究開発センター
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野中 秀彦
電子技術総合研究所
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亀田 直人
株式会社明電舎
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花倉 満
株式会社明電舎
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斉藤 茂
株式会社 明電舎
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西口 哲也
独立行政法人産業技術総合研究所
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野中 秀彦
独立行政法人産業技術総合研究所
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一村 信吾
独立行政法人産業技術総合研究所
-
渡辺 幸次
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
近藤 貢二
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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間瀬 一彦
高エネルギー加速器研究機構
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秋道 斉
産業技術総合研究所 計測標準研究部門
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一村 信吾
独立行政法人 産業技術総合研究所
-
井藤 浩志
産業技術総合研究所
-
近藤 道雄
産業技術総合研究所
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鈴木 淳
電子技術総合研究所
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中村 健
産業技術総合研究所
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荒井 和雄
産業技術総合研究所
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柄澤 稔
産業技術総合研究所計測太陽光発電研究センター
-
永井 武彦
産業技術総合研究所計測太陽光発電研究センター
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牛山 智晴
産業技術総合研究所
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花倉 満
(株)明電舎基盤技術研究所
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安達 和広
産業技術総合研究所
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二瓶 好正
東京理科大学総合研究機構
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二瓶 好正
東京理科大学
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一村 信吾
電子技術総合研究所
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福田 憲司
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
-
小杉 亮治
産業技術総合研究所パワーエレクトロニクス研究センター
-
福田 憲司
産業技術総合研究所
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佐藤 陽亮
東京理科大学理工学部
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斉藤 茂
株式会社明電舎
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亀田 直人
産業技術総合研究所
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西口 哲也
産業技術総合研究所
-
小杉 亮治
産業技術総合研究所
-
寺西 義一
産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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西口 哲也
(株)明電舎
-
野寄 剛示
(株)明電舎
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森川 良樹
(株)明電舎
-
井藤 浩志
電子技術総合研究所
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宮本 正春
株式会社明電舎材料・デバイス研究部
-
北條 久男
バキュームプロダクツ株式会社
-
二瓶 好正
東京理科大学理工学部
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近藤 道雄
産業技術総合研究所計測太陽光発電研究センター
-
野寄 剛示
明電舎 総研
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福田 憲司
産業技術総合研
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永井 武彦
産業技術総合研究所計測太陽光発電工学研究センター
-
小杉 亮治
産業技術総合研究所先進パワーエレクトロニクス研究センター
著作論文
- キャピラリーによるイオンビームの収束
- 水晶振動子センサー計測によるアンモニアプラズマ中のガス分析
- 水晶振動子センサー計測によるプラズマ気相成分の空間分布測定
- 水晶振動子計測によるプラズマ気相成分分析
- 2種類の圧力測定子を用いた水素漏洩検知
- 二成分濃度測定法における温度・湿度の影響
- 水晶振動子センサーによるシラン-水素混合気体中のシラン濃度比測定
- 紫外光励起オゾンによるシリコン酸化膜および化学気相成長法(CVD)-SiO_2膜の二段階酸化膜の界面特性評価
- 金属クラスター錯体イオンビームの発生とその応用
- VACUUM2008第30回真空展の報告
- VACUUM2007第29回真空展の報告
- 高濃度オゾンによるSiC高速酸化と酸化膜の特性評価
- 金属クラスター錯体を用いたクラスターイオン銃の開発
- 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
- 高純度オゾン雰囲気中への紫外照射による化学気相堆積法(CVD)SiO_2膜の改質
- 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
- UV光励起オゾンを用いたポリシリコンの低温酸化
- オゾン濃度その場測定によるUV光励起オゾン低温酸化プロセス中のO(^1D)の時間分布の解析
- オゾン光解離励起状態酸素原子によるシリコン低温酸化
- 高濃度オゾンガスの局所リアルタイム濃度測定法の開発
- 有機シリコンガスと高濃度オゾンガスの交互供給による300℃以下でのSiO_2絶縁膜作成
- 強磁性体を用いたトンネル接合型電子源の作成
- 遷移金属の酸化還元反応を用いた新しいオゾン分解法
- 水晶摩擦真空計を用いた2成分混合気体の濃度計測
- 新しい低温酸化プロセスの開発 (特集 新世代を拓くプロセス技術)
- 高品位シリコン酸化膜のオゾンによる低温作製技術 (特集 半導体プロセス技術のイノベーション)
- 平成19年度日本真空協会賞の審査経過と受賞業績紹介
- オークリッジ国立研究所滞在記
- プラズマ計測における水晶振動子センサーバイアス電圧依存性
- 金属クラスター錯体イオンビームの特性と二次イオン質量分析(SIMS)への応用
- プラズマ計測における水晶振動子センサーバイアス電圧依存性