高田 幹 | 東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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概要
関連著者
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高田 幹
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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高田 幹
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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高田 幹
株式会社富士通研究所
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松本 武
(株)富士通研究所
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山本 剛之
(株)富士通研究所
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江川 満
(株)富士通研究所
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田中 有
(株)富士通研究所:(株)qdレーザ
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荒川 泰彦
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東京大学生産技術研究所:東京大学先端技術研究所
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田中 有
(株)富士通研究所
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山口 正臣
(株)QDレーザ
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中田 義昭
(株)富士通研究所
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西 研一
(株)QDレーザ
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中田 義昭
(株)富士通研究所:(株)qdレーザ
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菅原 充
(株)富士通研究所:富士通(株):(株)qdレーザ:(財)光産業技術振興協会
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山本 剛之
(株)富士通研究所:富士通(株):(財)光産業技術振興協会
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菅原 充
(株)QDレーザ
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西 研一
株式会社qdレーザ
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山口 正臣
(株)富士通研究所
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荒川 泰彦
フォトニクス・エレクトニクス融合システム基盤技術開発研究機構:東京大学生産技術研究所
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宋 海智
(株)富士通研究所
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山本 剛之
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
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荒川 泰彦
東京大学ナノエレクトロニクス連携研究センター
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石田 充
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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山本 剛之
(株)QDレーザ
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江川 満
富士通(株):(財)光産業技術振興協会
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江川 満
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
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苫米地 秀一
(株)富士通研究所
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土居 正治
株式会社富士通研究所
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土居 正治
富士通株式会社
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高林 和雅
株式会社富士通研究所
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苫米地 秀一
株式会社富士通研究所
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宮田 英之
富士通研究所
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宮田 英之
富士通株式会社
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橋本 直樹
株式会社富士通研究所
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宮田 英之
株式会社富士通研究所
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中澤 忠雄
株式会社富士通研究所
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橋本 直樹
玉川大学工学部
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菅原 充
(株)富士通研究所
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中澤 忠雄
(財)光産業技術振興協会:富士通株式会社:株式会社富士通研究所
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中澤 忠雛
株式会社富士通研究所
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森戸 健
株式会社富士通研究所
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土居 正治
株式会社富士通研究所:富士通株式会社
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土居 正治
富士通株式会社:株式会社富士通研究所
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高林 和雅
(株)富士通研究所
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高林 和雄
(株)富士通研究所
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橋本 直樹
千葉大学大学院工学研究科
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山本 剛之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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橋本 直樹
弘前大学医学部第二外科:弘前大学医学部小児外科
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橋本 直樹
兵庫県立粒子線医療センター放射線科
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荒川 泰彦
東大ナノ量子機構
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中川 剛二
富士通株式会社
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前多 泰成
(株)QDレーザ
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中川 剛二
株式会社富士通研究所
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竹内 辰也
株式会社富士通研究所
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竹内 辰也
(株)富士通研究所
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奥村 滋一
(株)富士通研究所
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荒川 泰彦
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構:東大生産技術研究所
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森戸 健
富士通株式会社:技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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松田 学
(株)富士通研究所
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高田 幹
(株)富士通研究所
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松田 学
株式会社富士通研究所
-
松田 学
(株)富士通研究所:富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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前多 泰成
株式会社QDレーザ
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井出 聡
(株)富士通研究所
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秋山 傑
(株)富士通研究所
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森戸 健
(株)富士通研究所
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森 和行
(株)富士通研究所
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森戸 健
財団法人光産業技術振興協会:富士通株式会社光モジュール事業本部
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森 和行
富士通(株)
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大坪 孝二
(株)富士通研究所
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田中 宏昌
富士通(株)
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大坪 孝二
(株)富士通研究所:富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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大坪 孝二
富士通研:富士通:光産業技術振興協会
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影山 健夫
(株)QDレーザ
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井出 聡
富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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影山 健生
株式会社qdレーザ
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影山 健生
(株)QDレーザ
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秋山 傑
富士通研究所
著作論文
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上 (レーザ・量子エレクトロニクス)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上 (光エレクトロニクス)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上 (電子部品・材料)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上 (機構デバイス)
- 波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザ : 単一モード化,高速化の検討(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般,材料デバイスサマーミーティング)
- 半導体光増幅器および音響光学波長可変フィルタを用いた広帯域(132nm)波長可変レーザ(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- [招待論文]半導体光増幅器および音響光学波長可変フィルタを用いた広帯域(132nm)波長可変レーザ(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
- C-4-8 半導体光増幅器および音響光学波長可変フィルタを用いた広帯域 (132nm) 波長可変レーザ
- C-4-30 1.3μm帯量子ドットDFBレーザの広温度範囲10.3Gb/s動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザ : 単一モード化,高速化の検討(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般,材料デバイスサマーミーティング)
- 波長1.3μm帯高抵抗埋め込みAlGaInAs歪量子井戸DFBレーザの高速直接変調(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- AlGaInAs系電界吸収型変調器集積λ/4シフトDFBレーザの高出力10Gb/s動作(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- C-4-4 10G-EPONへ向けた波長1.27μm帯量子ドットDFBレーザ(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 高密度化による波長1.3μm帯InAs/GaAs量子ドットレーザの特性向上(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
- 波長1.27μm帯高密度量子ドットDFBレーザの研究開発 (レーザ・量子エレクトロニクス)
- 波長1.27μm帯高密度量子ドットDFBレーザの研究開発 (光エレクトロニクス)
- 波長1.27μm帯高密度量子ドットDFBレーザの研究開発 (電子部品・材料)
- 波長1.27μm帯高密度量子ドットDFBレーザの研究開発 (機構デバイス)