松田 学 | (株)富士通研究所:富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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概要
関連著者
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松田 学
(株)富士通研究所:富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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松田 学
株式会社富士通研究所
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山本 剛之
(株)富士通研究所
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奥村 滋一
(株)富士通研究所
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江川 満
(株)富士通研究所
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山本 剛之
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
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植竹 理人
株式会社富士通研究所
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山本 剛之
(株)富士通研究所:富士通(株):(財)光産業技術振興協会
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植竹 理人
(株)富士通研究所
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植竹 理人
富士通研究所
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大坪 孝二
(株)富士通研究所:富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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大坪 孝二
富士通研:富士通:光産業技術振興協会
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江川 満
富士通(株):(財)光産業技術振興協会
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江川 満
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
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山本 剛之
フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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植竹 理人
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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松田 学
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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江川 満
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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山本 剛之
(株)QDレーザ
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山本 剛之
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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下山 峰史
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所:富士通(株):(株)富士通研究所
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山本 剛之
技術研究組合光電子融台基盤技術研究所:フォトニクス・エレクトロニクス融合システム基盤技術開発研究機構
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下山 峰史
(株)富士通研究所
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松田 学
(株)富士通研究所
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下山 峰史
株式会社富士通研究所
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下山 峰史
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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高田 幹
東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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高田 幹
株式会社富士通研究所
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高田 幹
東大ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構
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大坪 孝二
(株)富士通研究所
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高田 幹
(株)富士通研究所
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大坪 孝二
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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苫米地 秀一
(株)富士通研究所
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井出 聡
(株)富士通研究所
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石川 浩
フェムト秒テクノロジー研究機構
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秋山 傑
(株)富士通研究所
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大坪 孝二
(財)光産業技術振興協会
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山本 剛之
(財)光産業技術振興協会
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森 和行
(株)富士通研究所
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森 和行
富士通(株)
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大坪 孝二
RWCP光インターコネクション富士通研究室
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石川 浩
RWCP光インターコネクション富士通研究室
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田中 宏昌
富士通(株)
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小路 元
(株) 富士通研究所
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植竹 理人
(財)光産業技術振興協会
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松田 学
(財)光産業技術振興協会
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江川 満
(財)光産業技術振興協会
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小路 元
RWCP光富士通研究所((株)富士通研究所厚木研究所内)
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松田 学
RWCP光富士通研究所((株)富士通研究所厚木研究所内)
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井出 聡
富士通(株):技術研究組合光電子融合基盤技術研究所
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秋山 傑
富士通研究所
著作論文
- 波長1.3μm帯高抵抗埋め込みAlGaInAs歪量子井戸DFBレーザの高速直接変調(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- AlGaInAs系電界吸収型変調器集積λ/4シフトDFBレーザの高出力10Gb/s動作(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- C-4-28 波長1.3μm帯AlGaInAs系DRレーザの25.8Gbps 50℃直接変調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- CS-5-3 半導体レーザの40Gbps超高速直接変調(CS-5.新たな転機を迎えた通信用送受信デバイスの動向,シンポジウムセッション)
- 低駆動電流40-Gbps直接変調動作に向けたAlGaInAs系高抵抗埋め込み型DRレーザ(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- 1.3μm帯面発光レーザの特性解析 : InGaAs3元基板の検討
- C-4-15 波長1.3μm帯AlGaInAs系高抵抗埋め込み型DRレーザの40Gbps直接変調による5km伝送(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- 低駆動電流40Gbps直接変調動作に向けたAlGaInAs系高抵抗埋め込み型DRレーザ(半導体レーザ関連技術,及び一般)
- C-4-17 AlGaInAs系高抵抗埋め込み型DRレーザの高速直接変調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- C-4-3 波長1.3μm帯AlGaInAs系DRレーザのアンクールド低駆動電流25.8Gbps直接変調動作(C-4.レーザ・量子エレクトロニクス,一般セッション)
- AlGaInAs系高抵抗埋め込み型DRレーザの超高速直接変調 (レーザ・量子エレクトロニクス)