三本杉 安弘 | (株)富士通研究所
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概要
関連著者
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三本杉 安弘
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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稲葉 聡
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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平本 俊郎
東京大学生産技術研究所
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竹内 潔
MIRAI-Selete
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平本 俊郎
東京大学生産技術研究所:mirai-selete
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山本 智彦
富士通株式会社
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金 永ソク
(株)富士通研究所
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島宗 洋介
(株)富士通研究所
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早見 由香
(株)富士通研究所
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助川 和雄
(株)富士通研究所
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川澄 篤
株式会社東芝
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川澄 篤
東芝セミコンダクター社
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稲葉 聡
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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稲葉 聡
(株)東芝セミコンダクター社
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池田 和人
富士通研究所
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池田 和人
(株)半導体先端テクノロジーズ(selete)
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山岡 雅直
日立製作所・中央研究所
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池田 圭司
(株)富士通研究所
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宮下 俊彦
(株)富士通研究所
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金永 ソク
(株)富士通研究所
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山本 知成
(株)富士通研究所
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落水 洋聡
(株)富士通研究所
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迫田 恒久
(株)富士通研究所
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南方 浩志
(株)富士通研究所
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大越 克明
富士通株式会社
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福田 真大
富士通株式会社
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岡部 堅一
富士通株式会社
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久保 智裕
富士通株式会社
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田島 貢
富士通株式会社
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大和田 保
富士通株式会社
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森 年史
富士通株式会社
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筑根 敦弘
(株)富士通研究所
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池田 和人
(株)富士通研究所
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加勢 正隆
富士通株式会社
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加瀬 正隆
富士通
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野田 研二
NSCore
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三本杉 安弘
富士通研究所
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竹内 潔
日本電気システムデバイス研究所
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竹内 潔
NECエレクトロニクス株式会社LSI基礎開発研究所
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稲葉 聡
MIRAI-Selete
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Hiramoto Toshiro
The Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo:vlsi Design And Education Center The Uni
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Hiramoto Toshiro
Institute Of Industrial Science University Of Tokyo
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Hiramoto Toshiro
Vlsi Design And Education Center University Of Tokyo
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山岡 雅直
日立製作所中央研究所
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山岡 雅直
(株)日立製作所中央研究所
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Hiramoto Toshiro
Vlsi Design And Education Center The University Of Tokyo
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筑根 敦弘
(株)富士通
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川澄 篤
東芝セミコンダクター&ストレージ社半導体研究開発センター先端ワイヤレス・アナログ技術開発部
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山岡 雅直
日立製作所 中央研究所
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助川 和雄
富士通株式会社
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池田 圭司
半導体miraiプロジェクト 技術研究組合 超先端電子技術開発機構(mirai-aset)
著作論文
- トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nm高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nmノード高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術
- SRAM : 低電圧化とばらつきへの挑戦(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- SRAM: 低電圧化とばらつきへの挑戦(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- 窒化酸化膜緩衝層を用いた改良LOCOS (ON-LOCOS) 素子分離技術