筑根 敦弘 | (株)富士通

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概要

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• 筑根 敦弘

  (株)富士通研究所

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• 山本 智彦

  富士通株式会社

• 金 永ソク

  (株)富士通研究所

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• 早見 由香

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• 杉井 寿博

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• 迫田 恒久

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• 武石 俊作

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著作論文

• トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nm高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• トランジスタ領域毎に最適化された複数歪技術を用いる45nmノード高性能・低リークバルクロジックプラットフォーム技術
• N_2Oプラズマアニールによるフッ素ドープSiO_2(SiOF)膜の比誘電率の安定化

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