武石 俊作 | 富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

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概要

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• 同名の論文著者
• 富士通株式会社プロセス開発部第四開発部の論文著者

関連著者

• 篠原 理華

  富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

• 武石 俊作

  富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

• 山田 雅雄

  富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

• 佐藤 幸博

  (株)富士通

• 原田 秀樹

  (株)富士通

• 筑根 敦弘

  (株)富士通研究所

• 武石 俊作

  (株)富士通

• 工藤 寛

  (株)富士通

• 篠原 理華

  (株)富士通

• 宮澤 久

  (株)富士通

• 山田 雅雄

  (株)富士通

• 工藤 寛

  富士通株式会社プロセス開発部第四開発部

• 筑根 敦弘

  (株)富士通

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著作論文

• N_2Oプラズマアニールによるフッ素ドープSiO_2(SiOF)膜の比誘電率の安定化
• プラズマ気相成長を用いた高耐熱性・低誘電率フッ化炭素膜の形成

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