プラズマ気相成長を用いた高耐熱性・低誘電率フッ化炭素膜の形成
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概要
著者
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篠原 理華
富士通株式会社プロセス開発部第四開発部
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武石 俊作
富士通株式会社プロセス開発部第四開発部
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工藤 寛
富士通株式会社プロセス開発部第四開発部
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山田 雅雄
富士通株式会社プロセス開発部第四開発部
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