固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)

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概要

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高効率太陽電池材料として期待されるβ-FeSi_2を大面積製膜で有利な固相反応エピタキシー法を用いて、100nm以上の厚膜の形成を試みた。結晶性の評価法として、反射高速電子線回折(Reflection High Energy Electron Diffraction : RHEED)とX線回折を用いた。本研究ではRHEED像がβ-FeSi_2であることを判定するために、β-FeSi_2用のRHEEDシミュレーション技術を開発した。本研究では、100nm程度のFe膜を室温でSi基板上に蒸着し、基板温度を上昇させながら、表面の結晶構造の変化をRHEEDで観察し、相図としてまとめた。その結果、表面は、基板温度上昇に伴って、Fe結晶、アモルファス、β-FeSi_2、β-FeSi_2消失へと変化することがわかり、XRDやEDSの結果を併せて、拡散機構のモデル化を行った。
2010-09-03

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