籾山 克章 | 山形大学大学院理工学研究科
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概要
関連著者
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籾山 克章
山形大学大学院理工学研究科
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広瀬 文彦
東北大・通研
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廣瀬 文彦
山形大学大学院 理工学研究科
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広瀬 文彦
山形大:jst
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籾山 克章
山形大学大学院 理工学研究科
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山形大学大学院理工学研究科
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山形大学工学部
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久保田 繁
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山形大学大学院理工学研究科
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山形大学大学院理工学研究科
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大山 直樹
山形大学大学院理工学研究科
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金子 翔
山形大学大学院理工学研究科
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栗原 啓
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科
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都築 暁
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院理工学研究科
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橋本 将貴
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
山形大学大学院理工学研究科
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武田 大樹
富山大学工学部
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吉田 一樹
山形大学大学院理工学研究科電気電子工学専攻
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出貝 求
山形大学大学院理工学研究科
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黒沢 正章
山形大学大学院理工学研究科
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石田 瑛之
山形大学大学院理工学研究科
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吉田 洋大
山形大学大学院 理工学研究科
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丹野 優樹
山形大学大学院理工学研究科
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大山 直樹
山形大学大学院 理工学研究科
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吉田 一樹
山形大学大学院 理工学研究科
著作論文
- 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般)
- MoO_3ホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池の発電特性(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- OHラジカル酸化法の開発とデバイス評価
- P3HT/n-Si有機無機接合ヘテロダイオードの電荷注入機構と発電特性の解析(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 高温溶媒吸着法による色素増感太陽電池の高効率化(TFT(有機,酸化物),半導体プロセス・デバイス(表面,界面,信頼性),一般)
- 遷移金属を含有した低純度Si基板を用いた太陽電池の試作(薄膜プロセス・材料,一般)
- 有機太陽電池の光伝搬解析と反射防止構造の設計 (電子デバイス)
- 赤外吸収分光を用いたシリコン酸化膜の室温原子層堆積法の素過程評価 (電子部品・材料)
- FeおよびFeSi蒸着材料からの固相反応法による鉄シリサイド薄膜の作製と評価 (電子部品・材料)
- 有機ゲートTFTを用いた多結晶Si粒界のキャリア輸送機構評価(TFT(有機,酸化物),一般)
- 有機太陽電池の光伝搬解析と反射防止構造の設計(TFT(有機,酸化物),一般)
- MoOxホール輸送層を用いた有機薄膜太陽電池のAg微粒子導入効果
- 有機太陽電池の反射防止多層膜のロバスト最適化
- 赤外吸収分光を用いたシリコン酸化膜の室温原子層堆積法の素過程評価
- FeおよびFeSi蒸着材料からの固相反応法による鉄シリサイド薄膜の作製と評価
- P3HT/n-Siヘテロ接合を用いた太陽電池の高効率化検討