FeおよびFeSi蒸着材料からの固相反応法による鉄シリサイド薄膜の作製と評価
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概要
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蒸着材料としてFeおよびFeSi化合物を用いて固相反応により厚膜β-FeSi_2層の作製を試みた。固相反応の過程を反射高速電子線回折(Reflection High Energy Electron Diffraction: RHEED)で詳細に調査した。β-FeSi_2薄膜成長において、FeとSiの相互拡散を促進するために、Fe蒸着源とは別にFeSi化合物を蒸着源として利用し、さまざまな初期蒸着量で固相反応を観察した。FeSiを使用した場合、固相反応によるβ-FeSi_2の成長温度を390Kまで下げられることをRHEEDで確認した。FeおよびFeSi化合物蒸着材料を利用した場合の固相反応機構についてそれぞれ議論する。
- 一般社団法人電子情報通信学会の論文
- 2012-08-01
著者
-
広瀬 文彦
山形大:jst
-
鹿又 健作
山形大学大学院理工学研究科
-
久保田 繁
山形大学大学院理工学研究科
-
久保田 繁
山形大学工学部
-
広瀬 文彦
東北大・通研
-
籾山 克章
山形大学大学院理工学研究科
-
廣瀬 文彦
山形大学大学院 理工学研究科
-
籾山 克章
山形大学大学院 理工学研究科
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